一、设 备 信 息 MACHINE INFORMATION
1、产品信息 Product Information: 6英寸 硅片 (MEMS Process)
2、设备重量 Unit Weight: 1200Kg
3、运行数量 Run Number: Single wafer
4、腔体配置 Chamber Configuraton∶ 1X Chamber
5、设备尺寸 Machine Size: 详见附件 《设备机械 图纸》See Attachment
二、硬件配置 HARDWARE CONFIGURATION
1.MAIN body lea
2, Load lock lea
3, Turbo Pump lea
4, Controller BOX lea
5. RF Generater 2ea
6. Vaccum Pump 2ea
7, Chilller 2ea
8, Gas box 1ea
三、设备方面 EQUIPMENT
1.机台正常起辉
2.背 He流量不大于 40SCCM
3.背 He漏率不大于 30mtor/min
4. 腔体背底压力不大于 9*e - 5 Tor
5.刻蚀速度大于 5um/min
6.刻蚀片内均一性小于+/-5%
7.选择比 si: PR大于 100: 1；si: siO2大于 150:1
8.侧壁角度 :91- 95°
报价：面议
已咨询858次刻蚀机
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已咨询164次等离子设备
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已咨询6421次
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已咨询170次等离子设备
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已咨询182次等离子刻蚀机
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已咨询72次Syskey 台湾
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已咨询2234次德国 Sentech
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已咨询5217次镀膜设备
等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。
VP-RS15等离子刻蚀机补充国内技术空白（真空不锈钢腔体等离子清洗装置），真空腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
上海沛沅CCP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。
上海沛沅ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。
营业执照已审核
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