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无掩膜数字光刻机 MCML-110A
- 品牌：上海筱晓
- 型号： MCML-110A
- 产地：黄浦区
- 供应商报价： 面议
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筱晓（上海）光子技术有限公司
更新时间：2024-04-23 09:11:37 -
企业性质生产商
入驻年限第3年
营业执照已审核
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- 详细介绍
总览产品特点
采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长
直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件
全自动化的对焦和套刻，易于使用
晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面JD定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mmZD幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟
500um最小线宽
可灰度曝光（128阶）
尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间
通用参数应用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工
带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作
教学、科研
参数
MCML-110A
MCML-120A
Wavelength 波长
365nm
365nm
Max. frame ZD帧
100mm x 100mm
100mm x 100mm
Resolution 分辨率
1.0um
500nm
Grayscale lithography
灰度光刻
64 levels
128 levels
Max exposure
ZD曝光量
500mJ/cm2
2000mJ/cm2
Alignment accuracy
对准精度
<200nm
<100nm
field curvature
场曲率
< 1 um
< 1 um
Speed
速度
5mm2 /sec
2.5mm2 /sec
Input file
输入文件
BMP, GDSII
BMP, GDSII
Z level accuracy
Z级精度
<1 um
<1 um
Environment
环境
20~25℃
20~25℃
样品
（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）
- 产品优势
- 波长 365nm
ZD帧 100mm x 100mm
分辨率 1.0um
灰度光刻 64 levels
ZD曝光量 500mJ/cm2
对准精度 <200nm
场曲率 < 1 um
速度 5mm2 /sec
输入文件 BMP, GDSII
Z级精度 <1 um
环境 20~25℃
