Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统
德国Raith CHIPSCANNER 电子束光刻机
德国Raith ELPHY 纳米光刻和纳米加工途径
德国Raith 电子束光刻机
德国Raith eLINE Plus 电子束光刻机
德国Raith eLINE Plus 电子束光刻机

eLINE Plus®是广泛用于寻求将高效且无妥协的电子束光刻系统与开放平台相结合进行进一步纳米加工工艺和技术的大学和研究机构的最 优系统。
为了应对最 广泛的应用范围,现代纳米技术研究需要在经典和纯电子束光刻(EBL)之外采用多种技术——最 好是在原位。
除了完全集成的纳米操作器和用于电子束诱导沉积和蚀刻的机制外,还有一系列进一步的可选功能,这使得eLINE Plus成为目前最 通用和独特的纳米工程电子束光刻系统。

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已咨询2889次英国 Nanobean
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。