牛津镀膜机Plasmalab NGP 1000
Oxford镀膜机PlasmaLab System100
OXFORD镀膜机PECVD Plasma system 133
英国Oxford 等离子增强化学气相沉积 Plasmalab System100
Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备
英国牛津镀膜机PECVD/刻蚀机LCP:型号:PlasmaLab System100

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PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑,占地面积小适合高校实验室及科研院所。
CCU-010 镀膜机提供两种款型。CCU- 010 LV低真空镀膜机,CCU- 010 HV 高真空镀膜机。采用模块化概念,便于以后把低真空镀膜机转变为高真空镀膜机。
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