OAI Model 212型桌面掩模对准系统
。输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm
。灯功率范围从1000到5000 w
。选择UVLED (365 nm和405 nm)光源
。基片尺寸范围从12“dia平方
。特殊12“x 12”和3毫米厚玻璃基板
。互换抛掷和面具
。空气轴承真空吸盘
。接近(15-20umgap): & lt; 3.0 - 5.0,柔软触点:2.0um,硬触点:1um和真空接点:≤0.5um
。对齐模块X, Y,和Z轴和θ
。双通道光学反馈
。只提供正面接触w / IR选项
。仅在桌面选项可用,适用于研发和独立的工作
。占用空间小
。适用于生物学、微机电系统、半导体和Microfludics CLiPP应用程序
Model 212 Table Top Mask Aligner System
。 Output Spectra Range: Hg: G (436nm), H (405nm), I(365nm) and 310nm lines, Hg-Xe: 260nm and 220nm or LED: 365nm, 395nm and 405nm
。 Lamp Power range from 1000 to 5000W
。 Option for UVLED (365nm and 405nm) Light Source
。 Substrate sizes range from 12” dia to sq
。 Special 12” x 12” and up to 3mm thick Glass Substrates
。 Interchangeable chucks and mask holders
。 Air bearing vacuum chuck
。Proximity (15-20umgap ): <3.0 – 5.0um, Soft Contact: <2.0um, Hard contact: 1um and vacuum contact : ≤ 0.5um
。 Alignment module X, Y, and Z axis and theta
。 Dual-channel optical feedback
。 Provides Front side exposure only w/ IR Option
。 Available in Table top option only and applicable for R&D and standalone work
。 Small Footprint
。 Applicable for Biology, MEMS, Semiconductor and Microfludics, CLiPP applications
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已咨询1129次美国 OAI
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已咨询346次光功率计仪/曝光机
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已咨询6025次半导体参数分析仪
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。