IoN Wave 10E 德国 PVA TePla 等离子去胶机

德国 PVA TePla 等离子去胶机

型号：IoN Wave 10E等离子去胶机

IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的zuixin产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能先进，特别适用于工厂、科研院所等领域。

IoN Wave 10E使用zuixin的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

IoN Wave 10E占地面积很小，安装和维护简单。依靠微波等离子技术，该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时，大程度的降低了产品暴露在静电放电（ESD）中。

先进的功能性：

。台式设计，占地面积小

。石英腔室最大可容纳8寸的晶圆，最多同时装载25片6寸晶圆

。使用Windows操作系统的工业计算机控制

。符合Semi E95-1101要求的图形用户界面（GUI）

。软件提供了不同的用户访问权限：操作员、工艺编写、维护

。通过以太网进行远程工艺监测

。机载诊断功能和报警记录

。工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

。液晶触摸屏（LCD）操作面板

。基于在线网络的模拟、培训和支持程序

。安装简单快捷

典型应用

。 去除光刻胶

。 晶圆打胶

。湿法刻蚀前的晶圆清洁

。去除SU-8

。 刻蚀钝化层

。失效分析中的器件开封

。 清洁和表面活化

。化学微量分析中的低温材料灰化

。 过滤器和滤膜的清洁 

规格参数

工作腔室

材质                                            石英

尺寸                                            248mm直径 x 397 mm长

腔门处直径                                 241mm

容积                                           19.2 升

工艺气体控制                            最多至6路气体，MFC控制

基础压力                                    0.07 mbar (50 mTorr)

工艺压力                                    0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空时间                                大约1分钟

微波发生器

频率                                            2.45 GHz

输出功率                                    最大1200W

供给需求

电源                                           220V，50 Hz，单相

工艺气体                                   输入压力1-2 Bar

压缩空气                                   4-6 Bar，流速最高 56 升/分钟   （间歇式）

吹扫气体                                   1.3-2.7 Bar，流速最高 28 升/分钟 （间歇式）

尺寸 宽/高/深                            775 x 749 x 781 mm

重量                                           135 千克

可选配置

。 推拉门

。 石英舟支撑杆

。温控板

。 1%精度的真空规

。 压力控制器

。指示灯柱

。 条形码阅读器

。 工艺气体切换器

。 光谱终点检测器

。 法拉第桶（次级等离子体）

。陶瓷腔室，耐化学腐蚀密封圈

。 打印机

。 油泵或干泵