日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-1
日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-300H
日本 SEN UV 清洗灯SUV，EUV 系列
美国Jelight紫外光 加臭氧清洗机 Jelight 42, 144AX，342，256，288A
PM11020紫外UV清洗机
日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-1
概要
UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。
主要特点和优点
最 大加工尺寸为ø100 mm（4英寸）。
加热阶段加快了清洗速度，实现了宽广的工艺温度范围。
紧凑，使用最小的台式空间
简单，在大气压下操作--不需要真空系统。
柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。
盖子联锁保证了当盖子打开时，系统无法运行。
臭氧催化剂装置，用于将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。
安全性能自动N₂净化循环、加热级保险丝保护、臭氧洗涤器和紧急停止开关。
应用
塑料包装和引线框架的表面清洁。
复合半导体(GaN、GaAs、InP和SiC)的表面清洗。
表面改性（润湿性和附着力的改善
表面氧化(薄氧化层沉积)
光阻剂的灰化、剥离和除尘。
清除有机污染物
紫外线固化
报价：面议
已咨询162次紫外线UV清洗光源设备
报价：面议
已咨询154次紫外线UV清洗光源设备
报价：面议
已咨询419次紫外臭氧清洗
报价：面议
已咨询3777次美国bioforce公司
报价：面议
已咨询2651次CIF紫外臭氧清洗机
报价：面议
已咨询1056次紫外线UV清洗光源设备
报价：面议
已咨询2563次英国Ossila公司
报价：面议
已咨询1658次紫外线UV清洗光源设备
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
SAMCO
营业执照已审核
分享
收藏
沪公网安备 31011502008050号