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德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
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LAGM 激光剥蚀 GED_多通道原子吸收光谱法系统

300 毫米的晶圆样品可以通过激光烧蚀(LA)电感耦合等离子体质谱法进行分析,无需使用小型封闭腔室。通过 LA 产生的颗粒由喷射器吸入,并通过 GED 引入电感耦合等离子体质谱法。
特点
◆ 飞秒激光和电流计镜能够精确地烧蚀高达 12 英寸(300 毫米)的晶圆。
◆ 无需使用小型封闭腔室即可对晶圆样品进行激光烧蚀,产生的粒子由喷射器吸入,并通过气换装置(GED)引入到电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)中。
◆ 双注射器模型 MSAG_DS 能够利用标准加入法在干等离子体条件下对 ICP-MS 进行定量分析。
◆ 可进行超微量级的点和面倾斜度分析。
◆ 可进行更深入(> 300 微米)的轮廓和杂质分析。
◆ 两个负载端口从 12 英寸(300 毫米)到 6 英寸(150 毫米)的晶圆,对准器和晶圆传输机器人集成在一起,以实现全自动操作(可选)
◆ 非晶圆采样器可采用替代采样阶段。


● 采用标准加入法对碳化硅晶圆进行定量分析

激光干涉测量频率:10 千赫兹,加速度计镜扫描速度:50 毫米/秒,加速度计镜扫描宽度:1 毫米(Y 轴)
晶圆台移动速度:0.025 毫米/秒(X 轴)
电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)数据采集模式:谱图,积分时间:1 秒/质量


激光束频率:10 千赫兹,电流镜扫描速度:50 毫米/秒,电流镜扫描宽度:5 毫米(Y 轴方向),晶圆台移动速度:0.025 毫米/秒(X 轴)
ICP-MS 数据采集模式:单个纳米颗粒分析,驻留时间:0.1 毫秒/质量,分析时间:60 秒



LAGM 软件与 ICP-MS 软件进行通信,实现了全自动操作。
- 校准模式:使用 MSAG_DS 获取激光烧蚀样品时的校准曲线。
- 全扫描模式:整个晶圆根据分析时间进行激光剥蚀。LAGM 软件会自动计算 X-Y-Z-θ 平台的移动速度,以使整个晶圆均匀剥蚀。
- 斑点模式:可自动分析多个指定斑点。可导入 KLARF 格式文件中的斑点信息。
- 直线模式:由两个点指定的直线以指定的宽度连续进行分析。
- 块模式:它类似于直线模式,但会以指定的时间对指定大小的块(例如1毫米×1毫米)进行烧蚀。等待一段时间后,烧蚀块旁边的块会被烧蚀。这种模式在空间分辨率方面优于直线模式。
- 深度剖面模式:对指定大小的同一位置进行反复剥蚀,以获取深度剖面信息。在剥蚀一层后可以设置间隔时间,这将使深度剖面的分辨率更高。
- 倾斜模式:晶圆倾斜的多个指定区域能够自动进行分析。
Expert_LA 型号包含两个负载端口,通过为每个晶圆设置配方,能够对晶圆样本进行全自动分析。从其中一个负载端口取出一个样本晶圆,在对晶圆进行分析后,将其放回另一个负载端口。
LAGM 软件控制具有两个特殊注射泵的 MSAG_DS。其中一个注射泵装有 1%的 HNO₃3溶液,另一个注射泵装有 1%的 HNO₃3混合标准溶液,它们总共以 3 微升/分钟的速度注入,并且两个注射泵的比例会发生变化以进行

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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。