网络研讨会丨Helios 5 PFIB -高通量材料移除、自动化和精确去层

时间

12月2日（中文）|下午1：00

（新加坡时间/ZG标准时间）

12月2日（英语）|上午11:00

（新加坡时间/ZG标准时间）

12月2日（英语）|晚上10:00

（新加坡时间/ZG标准时间）

12月3日（英语）|凌晨3：00

（新加坡时间/ZG标准时间）

专为故障分析设计的先进分析工具必须能够快速进行样品制备，并隔离微小的电气缺陷或物理缺陷——这些缺陷会影响设备性能、可靠性和产量。这些缺陷在设备封装步骤中变成更严重的问题，因为高密度的互连和晶圆级的堆叠意味着这些缺陷可能隐藏在更多的位置。

因此，失效分析已成为一项复杂、耗时且费力的工作。这是目前失效分析工具难以应对的挑战。

立即报名参加本次网络研讨会，深入了解Helios 5 PFIB如何应对这些挑战。您将发现其能够帮助您加快故障分析，并将数据处理时间缩短至数小时，而不是以往所需的数天或数周。您还将了解到Helios 5 PFIB是如何为先进逻辑（< 10nm）、先进3D NAND和先进封装等提供高通量、高分辨率以及无与伦比的自动化解决方案。

本次网络研讨会的目标观众：

芯片设计公司、晶圆厂、第三方服务实验室和IDM的失效分析实验室经理和工程师。

为什么要参加本次网络研讨会

在本次SPARK网络研讨会中，您将

●了解Helios 5 PFIB如何支持先进逻辑、3D内存和先进封装的高通量制备。

●了解Helios 5 PFIB如何提供独特的自动内存和逻辑设备去层。

●了解SmartAlign和SEMFLASH如何提高工作效率。

报名方式

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关于SPARK

SPARK是赛默飞为半导体先进技术共享提供的一个经济省时的知识平台。

SPARK旨在为半导体行业思想ling袖提供一个合作共享的平台，在这里，他们可以分享对行业挑战、产品性能和zui佳操作等方面的专业见解。您可以通过SPARK平台轻松获得半导体及微电子领域的前瞻视野和先进解决方案，包括赛默飞为半导体行业提供的ZX产品和分析流程。

演讲者介绍

Micah LeDoux

现任赛默飞世尔科技产品市场专员

Micah LeDoux现任赛默飞世尔科技产品市场专员，他在赛默飞世尔科技工作的六年里，一直从事半导体应用工作，在FIB/SEM 双束系统应用中积累了丰富的经验。作为一名应用开发工程师，他开发了用基于镓离子和氙离子的聚焦离子束制备TEM样品的各种方法，以及用于纳米探针和计量表征的逻辑和存储设备的气体增强逆向处理。Micah拥有西华盛顿大学物理学学士学位和俄勒冈大学应用物理学硕士学位。

顾晓汀

现任赛默飞世尔科技半导体解决方案市场经理

顾晓汀现任赛默飞世尔科技半导体解决方案市场经理，在半导体加工、微电子、电镀和物理冶金领域拥有丰富的经验。晓汀在FIB/SEM 双束系统应用方面有十年的经验。他曾在美国俄勒冈州Hillsboro的赛默飞世尔科技担任高级应用开发工程师职位，在此之前，他在美国加利福尼亚州Fremont的泛林集团担任制程工程师。晓汀拥有凯斯西储大学的材料科学与工程博士和硕士学位，以及约翰·卡罗尔大学的工商管理硕士学位。