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关于美国恩科优
恩科优总部位于美国California Morgen Hill。2005年,由Neutronix公司与Quintel公司合并为新的Neutronix-Quintel公司,即恩科优,并致力于掩膜对准与光刻系统的研究与制造工艺。 恩科优的主要产品是用来生成大规模集成电路的掩膜曝光机,即光刻机,在制造接触式和接近式光刻机领域具有领先地位,已售出四千台以上光刻工艺系统设备。包括洛克希德·马丁(Lockheed Martin),希创唐纳(Systron Donner),飞利浦(Philips),摩托罗拉(Motorola),美国国家半导体(National Semiconductor)等在内的科研机构与企业采购其设备,并建立长期合作关系。
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