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低温冷却系统_Chimera

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产品特点

原理同PheniX冷却系统,无需液氦的消耗
适用于市场上大多数垂直测角仪;
可进行远程监视、控制;
用于反射模式衍射实验,非常适合粉末样品的相变分析

详细介绍


产品介绍:

     Chimera冷却系统同样用于粉末X射线衍射平台,利用封闭循环的He气对样品台进行控温。适用于反射模式的垂直测角仪,为粉末样品的高低温实验提供温控方案。

 

原理同PheniX冷却系统,无需液氦的消耗
适用于市场上大多数垂直测角仪;
可进行远程监视、控制;
用于反射模式衍射实验,非常适合粉末样品的相变分析

技术参数:

温度范围

70-525K

控温精度

0.1 K

降温速度

525K~室温,用时50 min

室温~100K,用时35 min

升温速度

100K~室温,用时40 min

室温~525K,用时40 min

冷却介质

封闭循环的氦气


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