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W2-MKII沉淀研究仪器

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详细介绍

采用台式底座和背景灯光,使观察更方便。该设备用于研究沉淀的基本物理过程,包括地带形成和受阻沉淀。

演示性能:

· 起始浓度对沉降速度的影响

· 从单一的批处理测试过程中构建沉降速度曲线

· 起始悬浮物高度对沉降速度的影响

· 颗粒尺寸分布的影响

· 絮凝化添加剂的使用

产品描述:

沉降过程被广泛使用在水和废水净化过程中。依靠悬浮物的浓度和粒子特征,粒子以不同的方式从悬浮物中沉降。最简单的沉降类型是一种稀释的粒子悬浮物沉降,该粒子很少或没有趋势絮凝化。在这些情况下,净化速度的预测和扩展到工厂规模的设计是直接相关的。

对较高浓度的液体而言,内部粒子效果很重要并且可能凝块,发生不同的沉降速度状况。来自于这样系统的批处理测试的信息形成了最 佳化设计研究和工业沉降缸操作的重要部分。

Armfield沉降研究装置可以对任一选择好的沉淀/水系统的这些不同特征进行演示。

五个同样大小的玻璃柱垂直安装在背板上组成测量规模。每个柱子都可以从背板上移走进行清洗,填充和固体颗粒的混合。包含不同数量悬浮物的溶液放入不同的柱子内,以时间为标准,测量各种固溶体/液体交界面的高度改变情况来观察不同的沉降速度。

作为一个完整的设备该单元包含如下必备附件:

定时器,2L容量的3个烧杯,特定的重力瓶。

一个精确的天平用于对固溶体的测量(不提供)。

整个设备是台式的并提供背光。

技术参数

电力供应:

W2-A:220-240v/1ph/50HZ

W2-B:120v/1ph/60HZ

可选附件:

三重杠杆天平

量程:2610g

灵敏度:0.1g

皮重:225g

尺寸:

高度:1140mm

宽度:700mm

长度:430mm

运输规格:

体积:0.8立方米

毛重:90公斤


产品优势
采用台式底座和背景灯光,使观察更方便。该设备用于研究沉淀的基本物理过程,包括地带形成和受阻沉淀。
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