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鼎诚科技 电化学表面成像及图案化系统

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鼎诚科技 电化学表面成像及图案化系统 核心参数
仪器种类: 台式
详细介绍

产品介绍:

电化学表面成像及图案化处理系统,由精密空间定位装置与带有微电流检测的双恒电位仪以及相关的应用软件组成。可应用于界面电子及离子转移、化学及生物传感、离子组学、细胞成像、药物释放、界面相转移催化、生物膜模拟、界面有机合成、微纳米制备及表面微加工等研究及应用领域中。


技术支持

•探针渐近、探针扫描等多种工作模式

•电化学表面成像

•表面图案化处理功能

•双恒电位仪功能

•内置多种电化学方法

•交换工作电极功能

•皮安级微电流检测

•空间定位分辨率低至1.9nm

•第二工作电极开路电位模式

•紫外可见光纤光谱联用模式

•带有USB接口的光学显微镜

 

机械性能

步进电机

压电晶体

最 大有效成像面积

50mm×50mm

100μm×100μm

移动方向

X/Y/Z

X/Y/Z

移动范围

40×40×40mm

100×100×100μm

定位分辨率

20nm

5.0nm

重复定位精度

5μm

50nm


电学性能参数
电位控制范围±10V
最 大输出电流±250mA
电流测量分辨率<10fA
低通滤波器截止频率0.1Hz ~ 10kHz
第二电极电位控制范围±10V
第二电极最 大输出电流±250mA
第二电极电流分辨率<10fA
最 高成像采集分辨率

~10nm

(取决于电极探针尺度及机械移动步距,移动步距最小2nm,电极尺寸~10nm)

最 大光学有效成像面积~40mm²


实验方法

探针渐近曲线(PAC)

探针扫描曲线(PSCA)

探针扫描曲线(PSCP)

探针扫描曲线(PSCCC)

电化学表面成像(SECMA)

电化学表面成像(SECMP)

电化学表面成像(SECMCC)


电化学实验方法

循环伏安法(CV)

双差分脉冲电流检测(DDPA)

线性扫描伏安法(LSV)

三脉冲电流检测(TPA)

阶梯波伏安法(SV)

控制电位电解库仑法(BE)

塔菲尔曲线(TAFEL)

多电位阶跃方法(MPS)

开路电压-时间曲线(OCPT)

交流阻抗测量(IMP)

计时电流法(CA)

交流阻抗-时间测量(IMPT)

计时电量法(CC)

交流阻抗-电位测量(IMPE)

差分脉冲伏安法(DPV)

计时电位法(CP)

常规脉冲伏安法(NPV)

电流扫描计时电位法(CPCR)

差分常规脉冲伏安法(DNPV)

多电流阶跃法(MCS)

方波伏安法(SWV)

交流(含相敏)伏安法(ACV)

电流-时间曲线(I-t)

差分脉冲电流检测(DPA)




产品优势
电化学表面成像及图案化处理系统,由精密空间定位装置与带有微电流检测的双恒电位仪以及相关的应用软件组成。可应用于界面电子及离子转移、化学及生物传感、离子组学、细胞成像、药物释放、界面相转移催化、生物膜模拟、界面有机合成、微纳米制备及表面微加工等研究及应用领域中。
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