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LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: LSC-5000(AD)
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 深圳市科时达电子科技有限公司 更新时间:2024-04-26 06:25:51
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企业性质一般经销商
入驻年限第3年
营业执照已审核
- 同类产品清洗机(35件)
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- 详细介绍
LSC是占地面积较小,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。
LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用:
光刻胶去除/剥离
硅片
蓝宝石片
圆框架上的芯片
显示面板
ITO涂覆的显示屏
带保护膜的分划版
掩模版空白部位
掩模版接触部位
带保护膜/不带保护膜的掩模版
LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点:
支持450mm直径的圆片或15”x15”方片
带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体
带化学试剂滴胶的刷子转速可调节
带LABVIEW软件的PC全自动控制
触摸屏用户界面
机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面
安全互锁及警报装置
30”D x 26”W 的占地面积
LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项:
化学试剂传输模块
Piranha溶液清洗
臭氧化DI水(20ppm的O3)
氢化的DI水
高压DI水
热DI水
溶剂和酸分离排放
IR红外加热
DI水循环机
耐火立柜
- 产品优势
- NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到ZY化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的ZL技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的ZD化支持最理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。
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