倒置金相显微镜LZ200MD系列

1、使用专业的金相物镜及平场目镜，成像质量好，分辨率高，观察舒适。

2、提供优越的图像质量和稳固可靠的机械结构。

3、提供优越的图像质量和稳固可靠的机械结构。

4、选配相应的摄影摄像附件，可对观察图像进行采集和保存，配电脑和专业金相分析软件图像进行金相分析软件图像进行金相图像分析、半导体硅晶片检测、地址矿物分析、精密工程测量等领域。

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对化学机械抛光工艺的影响：抛光不均匀，可能会导致CMP过程中的不均匀抛光，从而造成表面粗糙和残留应力。

对薄膜沉积工艺的影响：凸凹不平的晶圆在沉积过程中会导致沉积薄膜厚度的不均匀，影响随后的光刻和蚀刻过程中创建电路图案的精度。

对光刻工艺的影响：影响聚焦；不平整的晶圆，在光刻过程中，会导致光刻焦点深度变化，从而影响光刻图案的质量。

对晶圆装载工艺的影响：在自动装载过程中，凸凹的晶圆容易损坏。如碳化硅衬底加工过程中，一般还会在切割工艺时留有余量，以便在后续研磨抛光过程中减小TTV、BOW、Warp的数值。