奥德镁 电解抛光腐蚀机 QETCH 1000
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奥德镁 电解抛光腐蚀机 QETCH 1000
奥德镁 电解抛光腐蚀机 QETCH 1000
产品介绍:
Saphir 560(Rubin 520)是新一代等径双盘磨抛机,它采用创新 的磨抛头,工作盘直径为200-300 mm。
Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩,为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。
带气动夹持的电动高度设置功能,结合主机的所有其他特征,saphir 550满 足最 高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设,并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时,制样过程会自动停止。
优点
带有Rubin520的双盘研磨/抛光装置
单点力和中心力控制
磨盘速度和动力头速度可调
触摸屏式的电子控制
可储存程序
动力头可顺时针/逆时针旋转
高度和侧向位置记忆功能
性能指标
| 工作盘 | ø 200-300 mm |
| 样品数量(单点) | 1-6个 样品 ø 50 mm |
| 单点加载压力 | 5-100 N |
| 中心加载压力 | 基于夹持器 |
| 连接电源 | 5.5 kVA |
| 运行功率(基础) | 2x 0.75 kW S6/40% |
| 运行功率(研磨控制头部分) | 0.17 kW S1 |
| 转速(磨抛机) | 50 - 600 rpm |
| 转速(研磨控制头部分) | 30 -150 rpm |
| 宽 x 高 x 深 | 1020 x 550 - 650 x 660 mm |
| 重量 | ~ 110 kg |
| 水压 | 1x 进水 R½" 最 大 6 bars |
报价:面议
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VMF用于测试煤挥发份。
炉膛作为主燃烧腔室,配有双层样品架。工艺产生的废气经尾气燃烧净化进一步处理。
全辐射电阻丝四面加热,避免溢漏产生的损坏,并能保证良好的温度均匀性。炉型体积较小可放置桌面, 但Z佳安装方式还是放置在地板上。
PTC热电偶矫正炉用于提供高稳定性的手提加热源,用于在对比方式时热电偶的矫正。
顶部装载坩埚熔炼炉系列(SCF)有3种尺寸,Z高工作温度为1400°C。 它们是专门为冶炼贵金属而设计的。
这些炉子符合《贵金属物品控制和标记公约》(也称为“贵金属公约”,“ Hallmarking Convention”或“ Vienna Convention”)规定的标记要求。
将牙冠和框架放置在填充有锆支撑珠床的烧结托盘中。 托盘设计为完全适合炉腔。 氧化锆珠床可以进行低摩擦的烧结过程,并产生无变形的骨架。
布里奇曼方法是用预合成材料缓慢地下降,通过一个具有温度梯度的区间。被熔化的材料通过一个较低的温度梯度区间,形成单晶。BV-HTRV管式炉装有用于布里奇曼方法的特殊设计的结构。标准型号,如HTRV 70-250或HTRV 100-250的工作管装有一个升降装置上,需要注意的是,所有的管式炉都可以装这个装置。Z常见的有两种炉型,HTRV 70-250和HTRV 100-250。