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微波真空烧结炉

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详细介绍

ZK型微波真空烧结炉是标准化多功能微波高温真空实验工作站,适用于各种气氛条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。尤能实现微波真空合成或烧结,并可对易受气氛影响的实验提供更为精细的气氛控制。1、采用工业级微波源,微波输出功率无级可调,确保设备连续稳定长时间运行。
2、配置二级真空机组和二路气氛控制系统,可为样品实验提供高真空或精细气氛条件。
3、各种的坩埚和保温结构供选择,对物料无污染。
4、大幅度提高实验效率,物料加热速度快,均匀性好,烧结材料晶粒小,性能好。

产品型号

ZK型微波真空烧结炉

主要特点

1、采用工业级微波源,微波输出功率无级可调,确保设备连续稳定长时间运行。

2、配置二级真空机组和二路气氛控制系统,可为样品实验提供高真空或精细气氛条件。

3、各种的坩埚和保温结构供选择,对物料无污染。

4、大幅度提高实验效率,物料加热速度快,均匀性好,烧结材料晶粒小,性能好。

技术参数

型号

ZK4516

ZK6016

电压

380±10V 50Hz 三相

380±10V 50Hz 三相

额定功率

13KW

15KW

微波输出功率

0.01~4.20kW 连续可调

0.01~5.60kW 连续可调

微波频率

2.45GHz

2.45GHz

工作温度

气氛保护下≤1600℃

真空条件下≤1500℃

气氛保护下≤1600℃

真空条件下≤1500℃

加热空间

Φ150×120mm(直径×高)

Φ180×150mm(直径×高)

测温方式

红外测温仪

红外测温仪

测温范围及精度

300~1800℃;读数±0.1%

300~1800℃;读数±0.1%

静态极限真空度

≤10-3Pa

≤10-3Pa

气氛系统

二路气氛控制管路;可充氧化气体、惰性气体、还原气体等,持续保持高真空

二路气氛控制管路;可充氧化气体、惰性气体、还原气体等,持续保持高真空

加热平台旋转密封

磁流体

磁流体

加热平台旋转速率

4-6rpm

4-6rpm

控制方式

PLC(品牌:三菱)

触摸屏(品牌:施耐德)

PLC(品牌:三菱)

触摸屏(品牌:施耐德)

控制程序

40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保;一键式自动高真空启动

40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保;一键式自动高真空启动

气动控制

控制气动真空挡板阀门

控制气动真空挡板阀门

防微波泄漏

微波泄露水平<0.5mW/cm2

微波泄露水平<0.5mW/cm2

磁控管报警

超温报警、过流报警

超温报警、过流报警

炉门防护报警

炉门关紧开关

炉门关紧开关

冷却水报警

流量报警

流量报警

移动式循环冷却水

流量2m3/h,额定制冷量5.2KW

流量2m3/h,额定制冷量5.2KW

主体部分

约2100×1600×2000mm(长×宽×高)

约2100×1600×2000mm(长×宽×高)


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