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4″高真空RTP炉
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: OTF-1200X-4-RTP-HV
- 产地:沈阳
- 供应商报价: 面议
- 沈阳科晶自动化设备有限公司 更新时间:2024-04-26 08:08:29
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企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
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- 详细介绍
4"高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4"石英管及高真空系统(机械泵+分子泵), 是专为半导体或太阳能电池基片(ZD3")的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热,最快升温速度为50℃/s,设有30段温度控制,精度为±1℃。此外,通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。控温仪表操作视频1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。
2、样品架上放置76mm的AlN基片,承载需要退火的样品。AIN具有很高的热导率,可使样品放置的区域有很好的温度均匀性(±5℃)。
3、内插式热偶保证了温度的准确性。
4、采用PID自动温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。
5、已通过CE认证。产品型号
4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC380V 50Hz(63A空气开关),必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带6mm双卡套接头)
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要特点
1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。
2、样品架上放置76mm的AlN基片,承载需要退火的样品。AIN具有很高的热导率,可使样品放置的区域有很好的温度均匀性(±5℃)。
3、内插式热偶保证了温度的准确性。
4、采用PID自动温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。
5、已通过CE认证。
技术参数
1、电源:炉体单相208V-240V,50Hz/60Hz,10KW
高真空系统AC110V/220V任意切换,50Hz/60Hz,110W
2、炉体结构:双层莫来石钢构
3、石英管:外径Ø110mm,内径Ø103mm,长380mm
4、样品架:76mm
5、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Ø10mm,灯长300mm
6、加热区:102mm×305mm,均匀性±5℃
7、热偶:K型热偶
8、温度:ZG温度1100℃,额定温度1000℃,在1000℃-1100℃下保温时间不得超过600s
9、控温精度:±0.5℃
10、最快升温速度:RT-800℃内50℃/s,800℃-1000℃内10℃/s
11、高真空系统气动时间:2min
12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中)
13、真空法兰:KF-D25,配有两个高温O型圈密封
14、流量计:16ml/min-160ml/min
15、前级泵流速:在10mbar状态下3.8L/min,50Hz;4.4L/min,60Hz
产品规格
炉体:尺寸760mm×330mm×530mm,重量50kg
高真空系统:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg