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二手 赛默飞 ICP MS X Series II 电感耦合等离子质谱仪

¥250000 (具体成交价以合同协议为准)
赛默飞 X Series II 美洲 美国 2026-01-07 11:01:18
售全国 入驻:5年 等级:金牌 营业执照已审核
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产品详情:

赛默飞 X Series II(XSERIES 2)是一款成熟的四极杆 ICP - MS,核心优势为高基体耐受性、低背景与低检测限、第三代 ORS3 碰撞 / 反应池,适配环境、食品、地质、制药等复杂基质的痕量 / 超痕量多元素与同位素分析,支持 HPLC - ICP - MS 形态分析与 PlasmaLab 合规数据管理。


核心技术参数

参数类别关键指标补充说明
质谱与扫描质量范围 2–255 amu;扫描速度>12,000 amu/s;四极杆单位质量分辨支持同位素比值分析,适配快速瞬态信号检测
离子源与接口27.12 MHz 固态 RF 发生器(1.0–1.6 kW);Xt 耐基质接口(标配)/ Xs 高灵敏度接口(可选);π 提取离子光学Xt 接口耐受 TDS>3% 高盐样品,减少清洗频次;Xs 接口提升超痕量分析灵敏度
碰撞 / 反应池(ORS3)双质量流量控制器;He 碰撞(KED)、反应气(NH₃/CH₄ 等)模式一键优化,高效消除多原子干扰(如⁴⁰Ar³⁵Cl⁺对⁷⁵As⁺)
灵敏度与检测限Li(7)≥100 Mcps/ppm,Y(89)≥300 Mcps/ppm,U(238)≥500 Mcps/ppm;Be 检出限≤0.3 ppt,In≤0.10 ppt,Bi≤0.08 ppt超高灵敏度满足超痕量元素筛查需求
进样与控制自动进样 0.1–5 mL;炬管自动定位;数据采集速率低至 100 μs进样精度高,保留时间重现性好,适配大批量样品分析
软件与合规PlasmaLab 工作站;支持 21 CFR Part 11 与审计追踪双向通讯控制 HPLC 等外设,适配元素形态分析数据处理


核心优势

  1. 高基体耐受性:Xt 接口搭配 π 提取离子光学,降低基质多原子干扰,高盐 / 复杂基质样品可长期稳定分析,减少停机维护。

  2. 低干扰高灵敏:InfinityII 离子透镜降低背景,ORS3 池高效去干扰,ppt 级检测限适配超痕量分析(如饮用水中重金属、食品中污染物)。

  3. 灵活应用适配:可快速切换常规 ICP - MS 与 HPLC - ICP - MS 形态分析,兼容有机相进样,适配金属材料、核工业等特殊场景。

  4. 稳定易维护:固态 RF 发生器、免维护高真空离子光学,自动化流程降低人为误差,适合高通量实验室常规运行。


典型应用场景

  • 环境:水体 / 土壤中重金属(Cd、Pb、Hg)、持久性污染物超痕量检测,满足 EPA、GB 标准。

  • 食品:食品 / 饲料中砷、汞、硒形态分析,重金属与稀土元素筛查,保障食品安全质控。

  • 地质 / 材料:矿石中稀土元素、贵金属定量,金属材料杂质与高纯试剂痕量元素分析。

  • 制药 / 生物:药物中金属催化剂残留、生物样品(血清 / 血液)中微量元素定量,支持元素形态毒性评估。

  • 同位素:地质年代测定、环境示踪等高精度同位素比值分析。


核心技术参数

灵敏度: 

低质量数  Li(7): 50 Mcps/ppm; 
中质量数  Y(89): 60 Mcps/ppm(7700x); 240 Mcps/ppm(7700s) ;
(高质量数  Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x); 120 Mcps/ppm(7700s);
根据用户特殊需求,如激光、核工业、半导体材料等应用,可提供超高灵敏度功能 

检测限: 
低质量数  Be(9): 0.5 ppt; 
中质量数  In(115): 0.1 ppt 
高质量数  Bi(209): 0.1 ppt 
3.  氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x);  3.0 %(7700s);
4.  双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0 % 
5.  同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1% 
6.  质谱范围:2 - 260 amu; 
7  丰度灵敏度 
低质量端:  5 x 10-7 
高质量端:  1 x 10-7 

主要特点:
尺寸最小的ICP-MS 
灵敏度最高的碰撞池-第三代ORS3 
纯  He 气碰撞池:只用He气就可以消除所有干扰。 
最耐高盐的ICP-MS:  HMI技术(TDS>3%) 
先进的ICP离子源技术:的数字控制式谐频ICP发生器 
有机溶剂进样不熄火! 
分析速度最快:ISIS-DS技术 
容易维护和清洗 
强的色谱联机功能:真正的一体化 
功能最多强的软件:MassHunter系统,实现实时QA/QC 
偏移标示,自动化控制等


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