美国珀金埃尔默PE Optima 8000 电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)

拥有突破性的功能和扩展功能，Optima 8000 不仅仅是全球Z受青睐的 ICP-OES 的技术革新。它是一场技术革命。
Optima 8000 继续延续 PerkinElmer 在 ICP 技术方面的卓越成就和领xian地位，秉承一贯的设计，提供**的分辨率和线性动态范围。更重要的是，8000 的稳定性和检出限是以往任何ICP 仪器都无法企及的。

基于可靠的 Optima 平台设计，在业界领xian的 Windows 7 兼容 WinLab32 软件的控制下，8000 将令您对 ICP-OES 刮目相看。 该系列的超凡性能是通过优化进样系统、增强等离子稳定性、简化方法建立和大大降低操作成本的zui*技术 实现的。

各个实验室对最大化利用 ICP 的定义均大不相同。但是，无论您优先考虑的是精密度还是可靠性、是灵活性还是稳定性、是分析速度还是使用的简便性，您都可以在 Optima 8000系列中找到理想的解决方案。

使用平板等离子体技术降低氩气消耗

利用 PerkinElmerZL的平板等离子体技术，氩气消耗只有螺旋负载线圈系统的一半，即可形成同样强健、同样耐高盐基体的等离子体。这种全新的射频发生方式，可使射频发生器免维护，从而zui*程度上降低操作成本，同时不影响性能。平板等离子体技术在任意RF功率下只需 8 公升/分钟的等离子体气流量。

使用 eNeb 样品导入系统可实现 2 到 4 倍的更佳检出限

使用革新的 eNeb（电子喷雾器）系统，样品可地更有效、更GX地导入 Optima 中。基于精密制造的惰性喷雾头，eNeb 可形成直径不超过 6 微米的大小一致的液滴。这些大小一致的小液滴可更快速地干燥、雾化和电离，达到的检出限比使用其他样品导入系统可达到的检出限好 2 到 4 倍。

eNeb 的喷雾头采用坚固耐用的惰性聚合物制成，提供良好的基体相容性、耐酸性和精确性，是所有样品类型（包括含有高盐的样品类型）的理想选择。

高级光学系统确保的检出限

为了增强光输出量，Optima 仪器上的光学系统提供的检测限，更容易满足美国 EPA、EN 和 DIN 规定。使用 DynamicWavelength Stabilization（型号 8000）可确保非凡稳定性和分析准确性。

ZL的等离子双向观测提GX率

可以使用同一种方法测量高浓度和低浓度的元素，从而提高处理量和效率。

轴向观测提供zuidi的检出限，而径向观测的观测高度可变，可扩充工作范围和消除电离效应。

独特的切割气消除了干扰

这项革新技术通过消除离子的冷尾焰消除了干扰。由于它使用的是空气，而不是气体流量极大的抽风系统或者易于阻塞需要清洗的接口锥，尾焰切割系统免维护，可提高性能并使线性动态范围更大。消除尾焰也从zui*程度上降低了添加昂贵的电离YZ剂的需要。

可快速更换的可调节一体化炬管组件可简化维护并优化性能

Optima 一体化炬管组件易于调节（无需工具），即使当 ICP 在运行时也如此，便于优化性能，甚至是对于最难的样品亦如此。为增加灵活性，该仪器与各种喷雾器和喷雾室兼容，包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/Meinhard 多种选择。

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