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加热型紫外臭氧清洗机

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详细介绍

PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEM &TEM,紫外对聚合物改性等。
紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。

技术参数

电源

AC 208~240V,单相 50/60Hz

紫外灯

  • 可发出双波长的水银灯

  • 功率:55W

  • 发出光的波长:254 nm 和185 nm

  • 使用寿命:2500 小时(可在本公司购买紫外灯来更换)

  • 照射区域:200 x 200 mm

腔体&样品台

  • 不锈钢壳体

  • 抽屉式样品台,以便放样取样

  • 样品台面积310 mm x 320 mm

  • 臭氧通风装置安装在腔体上

  • 样品台与紫外灯的距离:20mm-40mm(可调)

  • 样品台可以加热,最高温度可达150℃

  • 可设置20段升降温程序,控温精度为+/-1℃

  • 设备运行时间:0.01 秒-99.9小时

排气口

  • 直径为80mm的排气口安装在仪器后端

  • 请将橡胶管与排气口连接,将臭氧排出到实验室外

  • 仪器中不包含橡胶管

外形尺寸

510mm x 350mm x 400mm (W x H x D)

净重

28kg

质保期

一年质保期,终生维护(不包含紫外灯)

应用

  • 去除分子级别的污染物

  • 紫外光固化粘合剂

  • 紫外光催化

  • 氧化PDMS

  • 表面消毒

  • 刻蚀

  • 清洗MEMS 器件

  • 清洗各种基片,如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

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