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氮化镓(GaN)薄膜

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详细介绍


产品名称:

氮化镓(GaN)薄膜

产品简介:

氮化镓Epitxial范本saphhire是提出了氢化物气相外延(HVPE)的方法。在HVPE过程中,盐酸反应生成GaCl,而这又与氨反应生成氮化镓熔镓。外延GaN的模板是成本效益的方法,以取代氮化镓单晶基板。





技术参数:






常规尺寸dia50.8±1mm x 4um,10-25um.dia100±1mm x 4um,10-25um. <0001>±1° N型

注:可按客户需求定制特殊堵塞方向和尺寸。

产品定位C轴<0001>±1°

传导类型N型;半绝缘型;P型

电阻率R<0.05 Ohm-cm;半绝缘型R>106Ohm-cm

位错密度<1x108Cm-2

表面处理(镓面)AS Grown

有效值<1nm

可用表面积>90%

标准包装:

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装


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