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适合电子半导体研究的AFM-SEM原子力扫描电镜一体机

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产品特点

全新发布的 AFM-in-Phenom XL 结合了扫描电子显微镜 (SEM) 和原子力显微镜 (AFM) 的优势,实现了在同一系统中对样品进行多模态(SEM 及 AFM 形貌、元素、机械、电学、磁学

详细介绍

适合电子半导体研究的AFM-SEM原子力扫描电镜一体机

产品简介

全新发布的 AFM-in-Phenom XL 结合了扫描电子显微镜 (SEM) 和原子力显微镜 (AFM) 的优势,实现了在同一系统中对样品进行多模态(SEM 及 AFM 形貌、元素、机械、电学、磁学)关联分析。

 

· 设备扫描范围(开环):100μm×100μm×20μm

· 设备扫描范围(闭环):80μm×80μm×16μm

· 分辨率:0.2nm×0.2nm×0.04nm

· 样品尺寸:21mm×11mm×8mm

· 样品重量:100g

· 成像模式:表面形貌和粗糙度、CAFM、KPFM、FMM、PFM、EFM、F-z curves、I-V curves等



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应用案例:半导体材料-二硫化钼(MoS2)


硫化钼(MoS2)是一种 2D 层状 TMDCs,适合作为地球上丰富的催化剂或先进电子设备中的 2D 半导体。需要充分理解这些单层的制造条件,以确保可靠和可重复的属性,如灵活性、独特的电性或机械属性。


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我们展示了 AFM-in-SEM 解决方案,用于精确和复杂分析通过 CVD 在厚 SiO2/Si 上生长的 MoS2 薄片。所有技术——SEM、AFM、EFM和相位成像——都在两组不同制造条件下的样本上同时测量。这种方法可以比较结果,以确定最佳的制造参数,以实现所需的样本特性。使用 AFM 地形、SEM、EFM 和相位成像对 MoS2 进行复杂表征。


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