LFV-E系列电子式 1-2.5kN
先进的桌面式实验系统能购实现包括生物材料、生物医学材料、牙科植入物、熟料、纺织复合材料、自动或电子组件材料及部件的测试。LFV-E系列是自由流动的非液态系统，伺服电力驱动固定在上横梁上。它是试验机与zuixianjin驱动技术相结合的代表。
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l 能够进行直喷，喷雾和液滴测试； l 端口设有一台高速摄像机，用于拍摄水滴撞击的图像； l 安全功能 - 防溅板，紧急停止按钮和测试持续时间限制； l 用户友好的控制和操作； l 精确模拟液滴以225m/s的飞行速度对转子叶片的冲击。 l 满足ASTM G73-10测试标准要求
技术参数： 1.分辨率: 二次电子: 高真空模式 3.0nm @ 30kV, 8nm @ 3kV 高真空减速模式 7nm @ 3kV (可选项) 低真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV 环境真空模式 3.0nm @ 30kV 背散射电子 4.0nm @ 30kV 2.样品室压力ZG达2600Pa 3.加速电压200V ～ 30kV，连续调节 4.样品台移动范围 Quanta 250: X=Y=50mm Quanta 450: X=Y=100mm Quanta 650: X=Y=150mm
功能Z丰富的显微计算机断层扫描系统解决方案， 适用于广泛的材料科学应用 Thermo Scientific™ HeliScan™ microCT 通过利用先进的螺旋 扫描和迭代重建技术，提供无与伦比的图像保真度，为材料科 学带来了microCT的新纪元。 作为多尺度成像解决方案的一部 分， HeliScan™ microCT使科学家能够从内部结构获得有价值 的见解，以探索和验证广泛的材料属性。
Apreo 复合透镜结合了静电和磁浸没技术，可产生前所未有的高分辨率和材料对比度。 Apreo 是研究纳米颗粒、催化剂、粉末和纳米器件的理想平台，而不会降低磁性样品性能。传统的高分辨率 SEM 透镜技术分为两类：磁浸没或静电。FEI S次将两种技术结合到一个仪器中。这样做所产生的成效远远超过任一种镜筒的个体性能。两种技术均使电子束形成细小探针，以提高低电压下的分辨率，并使信号电子进入镜筒。通过将磁透镜和静电透镜组合成一个复合透镜，不但提高了分辨率，还增加了特有的信号过滤选项。静电-磁复合末级透镜在 1 kV 电压下的分辨率为 1.0 nm（无电子束减速或单色器）
Scios DualBeam FEI Scios™ 是一款超高分辨率 DualBeam™ 分析系统，能为包括磁性材料在内的众多样本提供出色的二维和三维性能。FEI Scios 的创新功能可提高通量、精度与易用性，非常适于学院、政府和工业研究环境中的纳米量级研究与分析。
Helios NanoLab DualBeam 一直以来，Helios NanoLab 都综合采用了 FEI 的ZJ电子和离子光学系统、配件和软件，能够为JD纳米量级研究提供强大的解决方案。对于从事纳米技术前沿研究的科学家，Helios NanoLab 能让他们拓展研究边界，为材料研究开辟新的天地。 借助极具价值的亚纳米 SEM 成像技术、S/TEM 超薄样本制备能力以及Z精确的原型设计功能，科学家能够将 Helios NanoLab 当作理想的研究伴侣，为未来的科技进步开发创新的新材料和纳米量级器件。
Talos™ 是新一代 TEM 产品，致力于让用户迅速访问二维和三维数据，从而专注于研究发现。 Talos 的配置适合开展材料研究和生命科学研究，是一款融合了众多创新技术的多功能系统，能够在未来数年里满足您的研究需求。 Talos 的材料科学应用
Spectra新的检测功能，使科学家和工程师能够获得以前难以获得的原子级数据，以满足更广泛的应用需求。该平台可以获得极其光束敏感的材料和半导体结构的详细图像，包括金属有机框架，沸石和聚合物，如果暴露在电子束中太长时间或在错误的电压下可能会损坏或破坏。它还满足了使用EDX（能量分散X射线）或EELS（电子能量损失光谱）等多种方式对大量原子级化学分析的不断增长的需求。
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