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纳米压印机PL400/600

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详细介绍


纳米压印机特点:

全晶圆压印- PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理;

低于10纳米分辨率,产率高达99%;

一步自动释放功能,可防止分离过程中模具/基材损坏,使压印产量最da化;

支持各种类型的硬模和软模;

可变模具和基材尺寸,灵活方便;

可编程PLC,通过自定义参数进行过程控制,带触摸屏用户界面

对准功能选项

多种工艺,适用于各种应用光学器件,显示器,数据存储,生物医学器件,半导体IC,化学合成和先进材料等

专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制,并且与传统的光刻工艺兼容

 

PL400纳米压印机参数:

基材尺寸: 4“标准(尺寸较小,形状不规则)

印记区:与晶圆尺寸相同。

模板尺寸:4”,2” and 1”

 

PL600纳米压印机参数:

 

基材尺寸,6“标准(尺寸较小,形状不规则)

印记区:  与晶圆尺寸相同。

模板尺寸  6”,4” ,2” and 1”

 

压印压力: 1 psi标准

模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外线曝光时间:95%强度水平下2-3分钟

对准功能: xyztheta(精度2um

 

技术参数:

控制腔操作压力: 45 psi 标准

控制腔真空:     <-14 psi

LED光源         2” 直径, >5W

过滤压力         700-100 psi

真空源           <-14 psi

功率             110-220V,50/60HZ

洁净室           1000级或更高级别

平台             17”*15.5”*10.5,80 Ibs

触摸屏控制器     6”*8”*2.5”, 1.5Ibs

电子控制腔       17”*14.5”*5.5,11.5 Ibs

LED 紫外光源     11”*11”*4.5”, 7 Ibs


产品优势
EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印机:PL系列400/600.
EZImprinting是一种超高产率(> 99%)纳米压印系统,带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。
该平台提供具有微定位夹具的机械平台,用于安装纳米压印室,UV固化源和对准显微镜。
它即可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的掩模对准器,同时提供可编程的自动控制功能。
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