纳米压印机特点：
▪ 全晶圆压印- PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理；
▪ 低于10纳米分辨率，产率高达99％；
▪ 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量最da化；
▪ 支持各种类型的硬模和软模；
▪ 可变模具和基材尺寸，灵活方便；
▪ 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面
▪ 对准功能选项
▪ 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等
▪ 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容
PL400纳米压印机参数：
基材尺寸: 4“标准（尺寸较小，形状不规则）
印记区:与晶圆尺寸相同。
模板尺寸：4”,2” and 1”
PL600纳米压印机参数：
基材尺寸，6“标准（尺寸较小，形状不规则）
印记区： 与晶圆尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
压印压力: 1 psi标准
模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外线曝光时间:在95％强度水平下2-3分钟
对准功能: x，y，z和theta（精度2um）
技术参数：
控制腔操作压力: 45 psi 标准
控制腔真空： <-14 psi
LED光源 2” 直径, >5W
过滤压力 700-100 psi
真空源 <-14 psi
功率 110-220V,50/60HZ
洁净室 1000级或更高级别
平台 17”*15.5”*10.5,80 Ibs
触摸屏控制器 6”*8”*2.5”, 1.5Ibs
电子控制腔 17”*14.5”*5.5,11.5 Ibs
LED 紫外光源 11”*11”*4.5”, 7 Ibs
报价：面议
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报价：面议
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报价：面议
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报价：￥1
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报价：面议
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报价：￥2700
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报价：￥2700
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正常使用条件下可稳定保存 1 年：存放在干燥、新鲜、避光的地方。 与胺、硫醇和路易斯酸发生放热聚合。 远离热源。 危险的燃烧或分解产物：酸、醛、一氧化碳、磷/锑氧化物、氟化氢气体。
用于在电化学装置应用中通过丝网印刷或缝隙涂覆来沉积导电石墨层的多石墨浆料。 石墨/炭黑糊剂，用于在光伏应用中通过丝网印刷来沉积活性高导电性碳层。 低温可加工银浆，用于沉积集电器。
Cargille宝石折光仪液体的折射率n D = 1.810，在所有不含砷的液体中highest 。它与宝石折光仪一起广泛用作鉴定宝石的接触介质。这种淡黄色液体还可用于减少或消除宝石表面的眩光，从而有助于检查宝石内部是否有夹杂物和其他缺陷。 该液体装在琥珀色的玻璃瓶中。瓶盖的内侧附有一根玻璃涂药棒，设计用于输送小液滴。
SONO-CELL ®超声喷涂系统包括XYZ运动系统，Sonaer超声喷嘴，超声波发生器，恒定液体输送系统和空气控制。适用于纳米薄膜涂层，例如太阳能电池，燃料电池，玻璃涂层。zuida喷涂面积：500mm x 500mm。完全可编程，可控制薄膜涂层的所有功能。致电或发送电子邮件以获取更多信息和价格。有几个选项可用和自定义。
E3100大室临界点干燥机已成为行业标准，已有35年以上的历史，并且已在世界众多扫描电子显微镜（SEM）实验室中使用。E3100主要用于临界点干燥生物和地质标本，也可用于MEM，气凝胶和水凝胶的受控干燥。 E3100的设计 具有一个大的 水平压力室，其内径为63.5 毫米x长度为82毫米。该腔室具有用于控制温度的外部水套，并通过可移动的后门引入样品。腔室的前部装有直径为25 mm的窗口，可在临界点干燥过程中提供无可比拟的液位视图。
Quorum制造了一系列临界点干燥机，以满足电子显微镜（EM）和其他应用的需求。 Quorum临界点干燥仪（有时称为超临界干燥）是一种在扫描电子显微镜（SEM）中进行检查之前对生物组织进行脱水的既定方法。这项技术是由Polaron（Quorum的先驱者）于1971年S次引入的，用于制备SEM标本，而Quorum E3100 临界点干燥机仍然体现了包括水平腔室在内的原始设计理念 。
入门级Kakuhunter公转自转搅拦脱泡装置 搅拌脱泡机 SK-300SII 高机能入门级类型机能强化新型号（SK-300SII）登场！ 可YZ搅拌发热「中间模式」 提高搅拌・分散力的「波动模式」
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