上海煜志 加长PECVD
平行板电容式PECVD
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
OXFORD镀膜机PECVD Plasma system 133
PECVD镀膜设备 NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
设备用途:材料表面气相沉积镀膜。适用于二氧化硅等陶瓷材料。
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已咨询879次加长PECVD
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优势:新型加热室结构,加热更均匀,损耗功率小,更节能。 炉门配有独特密封结构,确保正负压双方向密封。 冷却方式多样性,可供选择。