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Falcon III XO 法兰安装型高速X射线相机

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Falcon III XO 法兰安装型高速X射线相机 核心参数
分辨率 1024x1024 暗电流 <0.001e - /p/s

产品特点

帧频可达31帧/秒,采用DN160CF(8”)法兰设计,可以与真空室直接连接。相机采用电子倍增EMCCD芯片,高达5000倍的EM Gain,实现对采集信号的放大,探测能量范围覆盖12eV到20keV

详细介绍

英国Raptor Photonics公司的Falcon III XO相机是一款高速X射线相机,帧频可达31帧/秒,采用DN160CF(8”)法兰设计,可以与真空室直接连接。相机采用电子倍增EMCCD芯片,高达5000倍的EM Gain,实现对采集信号的放大,探测能量范围覆盖12eV到20keV,可实现对真空紫外VUV、软X射线的直接探测。

主要特性

.DN160CF (8”)法兰设计,可直接与真空室连接
.EMCCD芯片,分辨率1024x1024
.满分辨率帧频31fps
.可直接探测能量范围12eV-20keV
.制冷温度-70℃,暗电流<0.001e - /p/s
.读出噪声<1e -

典型应用

EUV X射线光谱、软X射线显微镜、VUV/EUV/XUV光刻、X射线衍射成像(XRD)、X射线荧光成像(XRF)、X射线相衬成像

>>X-ray衍射(XRD)

X射线成像及荧光成像(XRF)、X射线衍射成像(XRD)、X射线显微镜、共振非弹性X射线散射(RIXS)、VUV/EUV/XUV光谱、薄膜及纳米纤维、材料组成及结构、X射线等离子体诊断、全息照相及光刻

>>EUV紫外光刻
半导体工业使用波长从 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源,其特征尺寸小于100nm,但已达到光刻技术的界限。认识到这 一限制,该行业在过去几年中一直在寻找一种潜在的后继技术,以生 产小于100nm的特性。半导体工业研究的下一代光刻技术包括超视 距光刻、X-ray光刻、离子束投影光刻和电子束投影光刻。尽管EUV 光刻技术也有其挑战,但它经常被使用,因为它保留了上述光刻技术 (波长13.5nm)的外观和感觉,以及使用了相同的基本设计工具。 因此,直接探测X-ray相机为光刻系统工作中提供了好的诊断 和监控手段。

>>XUV、软X射线及EUV光谱
美国McPherson Instruments公司的251MX平场光谱仪,采用新的120g/mm光栅和EA4710XO-BN相机,可以轻松实现XUV、软X射线及EUV光谱的测量。

Falcon III XO – Open Front X-Ray

Fastest Scientific X-ray EMCCD camera on the market

The only high energy direct X-Ray using a 1MP Frame Transfer EMCCD sensor. The Falcon III XO offers a combination of speed and sensitivity for soft X-Ray applications up to 20KeV. The camera runs at 31.5fps in full resolution, fasted with ROI and binning. It offers <1e- readout noise using EM Gain. The Falcon III XO is available with options on cooling, as well as a selection of CF flanges .

• Open front end – CF208 (8”) flange for direct interfacing to vacuum chambers
• Back-Illuminated with no coating – Optimises sensitivity and large field of view imaging from 1.2keV to 20keV
• Fast frame in full resolution: 34 fps – Ideal for full-frame imaging with fast repetition lasers
• Deep cooled to -70°C – For minimal background event


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