光纤光栅刻写平台的历史。

自1978年加拿大通信研究ZX的Hill等人刻写出diyi根光纤光栅以来，光纤光栅在光通信、光传感、激光器等领域取得了广泛的应用，具有极大的应用价值，是实现纵模/偏振/横模等模式选择、环境感知、滤波、色散管理等多项功能的核心元器件。特别是随着近年光纤激光... 自1978年加拿大通信研究ZX的Hill等人刻写出diyi根光纤光栅以来，光纤光栅在光通信、光传感、激光器等领域取得了广泛的应用，具有极大的应用价值，是实现纵模/偏振/横模等模式选择、环境感知、滤波、色散管理等多项功能的核心元器件。特别是随着近年光纤激光器的兴起，光纤光栅作为实现全光纤激光器不可或缺的关键元件，也具有了极大的市场需求。
经过多年的发展，研究人员开发了多种光纤光栅刻写方法，从使用光源来看主要有193nm/248nm中紫外准分子激光，334nm近紫外激光，488nm氩离子激光，10.6μm　CO2激光，400nm/800nm飞秒激光；从刻写技术来看主要有内部写入、全息干涉、分波前干涉、静态/扫描相位掩模、在线成栅、直接写入等。
　　中科院上海光机所和南京聚科光电科技有限公司从20世纪末开始就对光纤光栅展开了研究，包括刻写技术、光栅种类、特性及应用等几乎涉及光纤光栅的各个方面。聚科光电基于光机所在该领域近20年的技术积累，开发了具有良好移植性、可靠性、刻写性能的光纤光栅刻写平台，包括各类核心元器件、集成管理软件、刻写工艺，可以分模块销售也可以整装销售，从而使广大客户在一个较好的技术平台基础上，可以缩短技术研发时间和成本，快速进入光纤光栅领域，有更多精力用于实现客户自身的核心价值。