氦离子化色谱分析高纯四氟化碳杂质

四氟化碳是目前微电子工业中用量Zda的等离子蚀刻气体之一,其组分及混合气体可广泛应用于硅二氧化硅氮化硅磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻在电子器件表面清洗太阳能电池的生产激光技术气相绝缘低温制冷泄漏检验剂控制宇宙火箭姿态印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用国外主要发达国家都有高纯四氟化碳的生产随着我国半导体电子工业的迅速发展,四氟化碳的年使用量超过300万t,并逐年增加,这就带来了四氟化碳产品的质量检测问题建立一种简便快捷准确度高的检测四氟化碳产品的方法,以满足四氟化碳的迅速发展高纯四氟化碳产品中的H2O2N2CO2C2F6SF6指标是其重要杂质指标之一,对这几种杂质进行检测是进行产品分析的基础,也是四氟化碳产品等级判定的基础如果在产品检测时能够同时将以上杂质组分定量分析,将大大提高产品分析的效率据此本文通过查阅相关资料,结合对气体分析的经验,开展了高纯四氟化碳产品中的H2O2N2CO2C2F6SF6杂质的同时检测方法的研究1试验方法1·1方法简述气相色谱法是一种常用的气体分析方法之一,它具有简便快捷灵敏度高等优点,对于气态样品的检测 氦离子化气相色谱仪