仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册2 登录
网站首页-资讯-话题-产品-评测-品牌库-供应商-展会-招标-采购-知识-技术-社区-资料-方案-产品库-视频

应用方案

仪器网/ 应用方案/ Zeta电位法监控氮化硅表面二氧化硅氧化层的去除

立即扫码咨询

联系方式:400-855-8699转8088

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!

扫    码    分   享
在空气中保存并且接触水溶液后,PH值滴定实验 测得氮化硅片的等电点(IEP)为PH4与氧化硅 片相比,IEP移向了更高的PH值然而,如果用 5%的HF酸处理几秒钟,IEP变为5.3,这说明HF 有效出去了氮化硅表面的自生氧化层如果在HF 处理之前先用Piranha 溶液处理一下,氧化物层 将会被处理的更彻底 安东帕SurPASS固体表面分析仪/固体电位运动分析仪/固体表面ZETA电位测量仪

参与评论

全部评论(0条)

推荐方案

在线留言

上传文档或图片,大小不超过10M
换一张?
取消