2025-03-17 16:59:58粉末ald

粉末ALD（Atomic Layer Deposition，原子层沉积）是一种在粉末材料表面进行纳米级薄膜沉积的技术。该技术通过交替引入前驱体气体和反应气体，并在每次引入后进行清洗，从而在粉末表面逐层沉积薄膜。粉末ALD具有高度的均匀性和可控性，可实现精确控制薄膜的厚度和成分。这种技术在催化剂、传感器、电池材料等领域有广泛应用，能有效提升材料的性能和稳定性。

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