2025-01-10 10:50:20PECVD沉积

PECVD沉积，即等离子增强化学气相沉积，是一种先进的薄膜制备技术。它利用等离子体激活反应气体，促进气体分子在基片表面发生化学反应，从而沉积出所需的薄膜材料。PECVD沉积具有沉积速率快、薄膜质量高、温度低及易于控制等优点，广泛应用于半导体、光学、太阳能等领域。通过精确调控反应条件和气体配比，可制备出组成均匀、结构致密的薄膜，为器件制造和材料研发提供了重要支持。

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