等离子清洗技术 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-10 10:52:26等离子清洗技术: 等离子清洗技术是一种高科技的表面处理技术，利用等离子体的高能量和活性粒子，能够彻底清除物体表面的油脂、污垢、氧化物等杂质，同时不会对基材造成损伤。该技术具有高精度和高效率，支持多种清洗模式和工艺参数，广泛应用于电子、航空航天、汽车制造、医疗等领域。通过等离子清洗技术的处理，可以提高物体表面的清洁度、附着力和可靠性，确保产品的质量和性能。

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等离子清洗技术问答

2021-01-14 15:04:11纺织物等离子清洗技术提高表面亲水性: 纺织工业中如何实现纺织物具有耐久的颜色,功能表面？等离子表面处理应用于纺织工业对产品表面进行改性技术,提高亲水性,面料、纤维和纱线的功能涂层与功能化等离子处理。等离子体技术在纺织物加工中能改善复合纤维的粘结,改善表面性能，提高表面的润湿度等，这种处理技术是干法处理，经过验证的，有效的，经济的和环保的表面处理方法，传统工艺中，纺织物在印染前还有经过多种煮漂等工序，耗水耗能，对环境污染极大，而等离子技术是让生产过程绿色环保，有效减少污染，低价经营成本和工艺得到提高。因此从发展趋势看，等离子清洗机的应用在纺织物表面改性上具有很大的发展潜力。等离子体技术处理纺织物的作用是：1. 改善吸湿性2. 改善抗静电性3. 改善染色性4. 提高防粘性大气等离子清洗机和真空等离子清洗机都能应用于纺织工业制造过程中，低温等离子体中的高能活性粒子于纤维表面相互作用，例如表面活化、接枝聚合、表面清洗等，改变了纺织物表面的形貌特征和化学组成，进而改善纺织物表面功能特性，还能借助等离子体表面技术，研发创造新的功能性涂层面料，赋予产品新的附加值，提高企业的核心竞争力。不过根据不同的材料、处理目的和生产工艺的差异化，厂家会选用不同的设备。金铂利莱科技有限公司（http://www.sz-kimberlite.com）能为客户定制专属的解决方案，让企业在生产过程中环保、减少原料的浪费。等离子清洗设备能搭载客户原有的流水线设备，一体化在线生产。

2021-11-16 17:30:05等离子清洗与传统清洗的优缺点: 1.传统清洁方法的缺点传统的清洗方法包括水清洗、有机溶剂清洗和化学性质。一般将超声波分离处理、超高压注入等物理效应与增溶转化等化学效应结合起来，实现清洗的作用。这种清洁方法看起来很便宜，但它会消耗大量的可再生资源，并造成环境污染。清洗中常用的有机溶剂大多是易燃或有害的化学品，排放的废水和工业废气对生态环境造成了严重的破坏。采用传统的湿法清洗后，表层总会有大量的水或有机化学残留物，必须选择其他方法进行二次清洗。2.等离子清洗的优点是什么？等离子清洗可以提高清洗率。整个清洗和生产过程在10分钟内就能成功，因此具有输出率高的特点。等离子体清洗还可以清洁各种材料，无论是金属材料、半导体材料、金属氧化物，还是聚合物原料(如聚丙烯、高密度聚乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺薄膜、聚氨酯、环氧树脂胶粘剂和其他聚合物化合物)。它还可以清洗各种材料，无论是金属材料、半导体材料、金属氧化物，还是聚合物材料，如聚丙烯、高密度聚乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺薄膜、聚氨酯、环氧树脂胶粘剂等。因此，它非常适合于不耐高温和耐溶剂的材料。而且还可以有选择地做好整体、局部或复杂结构的清理工作。等离子体清洗的真空值约为100Pa，这种清洗条件很容易达到，因此这种设备的机械设备生产成本不高，清洗工艺不需要使用非常昂贵的有机溶液，从而使整体生产成本低于传统湿法清洗工艺。同时，当清洗和去污成功完成时，材料本身的表层性能也可以得到改善，如改善表层的润湿性能、改善薄膜的附着力等，这在许多应用中都是非常重要的。与高精度、高洁净度标准的电子元件相比，还应采用精细清洗工艺。等离子清洗是一种可以合理、有效地替代化学清洗的加工技术。此外，等离子清洗还可以与水清洗工艺相结合，以增强清洗处理的实际效果。等离子体干洗也是一种很好的辅助水清洗加工技术。等离子清洗机在清除表层污染源时不会对健康或安全造成危害。

2022-01-19 16:22:22什么是低压等离子技术？: 对于低压等离子技术，气体在真空中通过获取能量从而被激发。等离子由高能离子、高能电子以及其它反应粒子组成。由此，等离子材料表面可以被有效的改变。其等离子效应可以分为以下三类·微砂喷射：材料表面通过离子轰击被消减·化学反应：材料表面与离子化的气体产生化学反应·紫外线放射：紫外射线将长链破化合物分解通过改变工艺参数，如：压力、发生器功率、工艺时间、气体流量和气体组成，可以获得不同的等离子效果。如此便可在一道工序内完成多种工艺效果。低压等离子技术特点特别适用于处理2D或3D部件用于处理散装材料批处理工艺Diener等离子表面处理技具有出类拔萃的等离子系统。Diener的产品线包含标准及特种设备，涵盖所有等离子表面处理应用领域。为您提供量身定制的解决方案,根据您的需求为您开发设计及生产设备。上海尔迪仪器科技有限公司代理德国Diener的产品、大气压等离子清洗机，具有免费的售前售后服务，响应速度快，如有需要，可联系上海尔迪仪器科技有限公司。

2022-11-02 23:50:36兆声清洗技术原理、优势及应用: 1 兆声清洗技术背景Schwartzman等人，1993在SC1、SC2清洗时使用了兆频超声技术，获得前所未有的清洗效果，使得该方法在清洗工艺中被广泛采用，也引发了对超声波增强清洗效果的规律与机理的研究。1995年Busnaina的研究表明，兆频超声波去除粒子的能力与溶液的组成、粒子的大小、超声波的功率及处理时间有关。1997年Olim发现兆频超声去除粒子的效率与粒子直径的立方成正比，并由此推断兆频超声无法去除0.1μm以下的粒子。但是，兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上＜0.2μm的粒子，起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。但是，随着频率升高，声传播的效率会降低，所以兆声波清洗技术效果并不是频率越高越好。目前，一般用的频率范围是（700～1000）kHz。2 兆声波清洗原理简介声能在液体内传播时，液体会沿声传播的方向运动，形成声学流（Acousticstreaming），声学流是由声波生产的力和液体的声学阻力以及其他的气泡阻力形成的液体的流动的效果，兆声波清洗就是利用声能产生的液体流动来去除硅片表面的污染物，其原理见图1。兆声波清洗是由高频（700～1000kHz）的波长短（1.5μm左右）的高能声波推动溶液做加速运动，使溶液以加速的流体形式连续冲击硅片表面，使硅片表面的颗粒等污染物离开硅片进入溶液中，达到去除污染物的目的。随着声能的增高，表面张力会下降，这可改善浸润效果及小颗粒的浸润。而且，能量越高，声学流的速度越快，硅片表面被带走的颗粒也随之增多反应速率也会升高，这可降低反应时间，同时，也可以降低化学液的浓度。随着频率升高，空洞现象的阀值会升高，所以兆声不会像超声一样会产生气泡而损伤硅片表面。而根据超声频率的高低对应的去除污染物颗粒大小的能力，选用的频率见表1。3 兆声波清洗技术的特点（1）美国VEＲTEQ公司的M.Olesen.Y.Fan等人研究发现，兆声技术有如下特点。能大大降低边界层的厚度，使其具有清除深亚微米颗粒的能力，可满足现行工艺以及0.1μm（线宽）技术对清洗工艺的需求。有兆声时边界厚度的对比（见图2）。（2）可以极大的提高清洗效率，从图3有无兆声时的清洗效率对比图中可以看到，当兆声关闭时，用30s的时间清洗效率只能达到20%，有兆声时，只需10s的时间清洗效率就可达到99.99%。（3）由于兆声波清洗可以使用稀释倍数大的化学液，从而大大减少了化学药品的用量和消耗，降低了清洗工序的工艺成本，有效减少了化学液的污染，保护环境。图3是在极低浓度的化学液中有无兆声的清洗效果对比图。由于兆声波清洗具备以上诸多优点，因此使得兆声波清洗很快成为硅片清洗行业中广泛应用于去除微细颗粒的重要手段。4 兆声波清洗技术在清洗设备中的应用结合常规的湿法清洗工艺开发出适合相关工艺阶段的兆声清洗设备，按照这些设备的不同结构，大体可分为两类，一类是融汇在湿法清洗机兆声清洗槽或兆声漂洗槽，它们作为设备的一部分，只完成单个的清洗或漂洗过程。另一类则是以独立的设备形式出现。这就是兆声清洗机，该种设备通常配备两个槽体，一个清洗槽和一个冲洗槽，清洗槽是在兆声环境下用化学液来去除硅片表面的微细颗粒及化学污染物等，冲洗槽则是对清洗完的硅片用去离子水进行冲洗，从而达到生产需要的洁净度。但是由于兆声传播是一种介质传播，声音传播中的能量会转化成介质的动能，因此在使用兆声清洗的同时会产生兆声能量的衰减。导致能量衰减的因素，首先是兆波的反射，如图4所示。兆声能量的衰减可通过以下公式计算：衰减系数γ可表示为：γ=γ吸收+γ分散；γ分散在液体中，不在计算内。在水液体中，γ吸收系数（dB/m）=0.2F2（MHz）。由此计算可得，在频率为950kHz时，衰减度约为0.002dB/m；在频率为40kHz时，衰减度约为0.000003dB/m，在水液体中，兆声波衰减约为低频超声波衰减的1000倍，如图5所示。因此，在兆声清洗中，液位不能超过500mm。而在低频超声波中，超声波能量可传至（1.5～2）m高。安装时，石英缸底部有一定倾斜角度更利于高频兆声波的传播，由图7中角度与声压的关系可知，当θ=2°时，最有利于兆声波的传播。由于声波传播时一种介质传播，因此在不同的频率下石英缸作为传递介质，它的厚度也对兆声的传播有一定影响。通过下面公式可以计算出不同介质中声波的传播率D：从图8可见，当厚度t=3mm时，兆声波在石英中具备更好的传播率。兆声发生器在石英循环溢流槽中的安装原理见图9。5 兆声清洗技术应用领域由于兆声波能去除硅片表面的微小颗粒，并且不会对硅片表面造成损伤，近几年兆声波清洗被大量的应用在清洗工艺中。兆声波用在SC－1中，可提高去除颗粒尤其是小颗粒的效果；用在DHF，臭氧水、纯水中都能起到增强清洗效果的作用。目前兆声清洗技术被广泛应用于液晶、手机镜片、光学器件照相机镜头制造业，汽车、摩托车制造业，电子、微电子、电子电器元器件制造业，五金业、机械的零件业，航天、航空清洗精密零部件业，钟表、眼境、珠宝制造业，家电产品制造业，电镀业，铁路机车造业等各个行业。（转）具体应用涉及：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺

2021-11-16 17:20:18解说等离子技术用于涂层: 用于涂层所有的工业材料、金属、玻璃、陶瓷等离子聚合反应单体被导入等离子反应腔。等离子使气体原子化并使其沉积在工艺部件的表面。应用．疏水层的沉积．亲水层的沉积．保护或绝缘层的沉积．防扩散层适用部件．精密驱动件．洗碗机．医疗器械．车大灯反射镜．摄像头．以及其他部件应用领域．生物芯片制造．精密机械制造．洗碗机制造．医疗器械制造．传感器工程．纺织业．钟表制造业．以及其他应用领域

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