- 2025-05-24 11:03:48玻璃钢巴歇尔槽
- 玻璃钢巴歇尔槽是一种用于流量测量的设备。它通常采用玻璃钢材质制成,具有耐腐蚀、强度高、使用寿命长等特点。该设备能够准确测量流体的流量,广泛应用于水利、环保等领域,如河流、湖泊、水库等水体的流量监测,以及工业废水、污水处理等环保领域的流量测量。
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玻璃钢巴歇尔槽问答
- 2021-09-08 17:58:40供应B=25型明渠流量监测304不锈钢巴歇尔槽
- 巴歇尔槽,与超声波明渠流量计配套使用,测量明渠内水的流量。巴歇尔槽构造及安装的技术参考选择巴氏计量槽的种类,要考虑渠道内流量的大小,渠道内水的流态,是否能形成自由流。流量小于40L/s时,一般应选择直角三角堰。大于40L/s,一般应选择使用巴氏计量槽。流量大于40L/s,渠道内水位落差又较大,可以选择矩形堰。条件允许,好选择巴歇尔槽。巴歇尔槽的水位-流量关系是由实验标定出来的,而且对上游行进渠槽条件要求较弱。三角堰和矩形堰的水位-流量关系来源于理论计算,容易由于忽视一些使用条件,带来附加误差。量水堰槽可以用不锈钢,玻璃钢制做。三角堰和矩形堰的堰口是关键尺寸,加工要准确。朝向进水一侧表面要平滑。巴歇尔槽内尺寸要准,内表面要平滑。喉道部分是关键尺寸,要更准确。巴氏计量槽常用规格尺寸:(单位:mm)序号喉道段收缩段扩散段墙高流量参数bLNB1L1LaB2L2KDCn125762916735623793203192302171.55025111443214406271135254222604351.55037615257259457305178305254606381.55041523051144006104073946107661013721.54052283051145758645763814577677019271.530630060023078013509026009208080024441.521/小时1标准型25835*267*26519.442标准型51773*314*30547.523标准型76914*359*517115.564标准型1521525*500*730399.65标准型2281630*675*890903.66标准型2502845*980*10609007标准型3002870*940*120014408标准型4502945*1120*120022689标准型6003020*1300*1200306010标准型7503095*1480*1200396011标准型9003170*1660*1200450012标准型10003200*1780*1250540013标准型12003320*2020*1250720014标准型15003470*2380*1250900015标准型18003620*2740*1250
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- 2022-07-14 15:06:51浅谈扫描俄歇纳米探针
- 简介 扫描俄歇纳米探针,又称俄歇电子能谱(Auger Electron Spectroscopy,简称AES)是一种表面科学和材料科学的分析技术。根据分析俄歇电子的基本特性得到材料表面元素成分(部分化学态)定性或定量信息。可以对纳米级形貌进行观察和成分表征。近年来,随着超高真空和能谱检测技术的发展,扫描俄歇纳米探针作为一种极为有效的表面分析工具,为探索和研究表面现象的理论和工艺问题,做出了巨大贡献,日益受到科研工作者的普遍重视。俄歇电子能谱常常应用在包括半导体芯片成分表征等方向发展历史 近年来,固体表面分析方法获得了迅速的发展,它是目前分析化学领域中最活跃的分支之一。它的发展与催化研究、材料科学和微型电子器件研制等有关领域内迫切需要了解各种固体表面现象密切相关。各种表面分析方法的建立又为这些领域的研究创造了很有利的条件。在表面组分分析方法中,除化学分析用光电子能谱以外,俄歇电子能谱是最重要的一种。目前它已广泛地应用于化学、物理、半导体、电子、冶金等有关研究领域中。 俄歇现象于1925年由P.Auger发现。28 年以后,J.J.Lander从二次电子能量分布曲线中第一次辨认出俄歇电子谱线, 但是由于俄歇电子谱线强度低,它常常被淹没在非弹性散射电子的背景中,所以检测它比较困难。 1968年,L.A.Harris 提出了一种“相敏检测”方法,大大改善了信噪比,使俄歇信号的检测成为可能。以后随着能量分析器的完善,使俄歇谱仪达到了可以实用的阶段。 1969年圆筒形电子能量分析器应用于AES, 进一步提高了分析的速度和灵敏度。 1970年通过扫描细聚焦电子束,实现了表面组分的两维分布的分析(所得图像称俄歇图),出现了扫描俄歇微探针仪器。 1972年,R.W.Palmberg利用离子溅射,将表面逐层剥离,获得了元素的深度分析,实现了三维分析。至此,俄歇谱仪的基本格局已经确定, AES已迅速地发展成为强有力的固体表面化学分析方法,开始被广泛使用。基本原理 俄歇电子是由于原子中的电子被激发而产生的次级电子。当原子内壳层的电子被激发形成一个空穴时,电子从外壳层跃迁到内壳层的空穴并释放出光子能量;这种光子能量被另一个电子吸收,导致其从原子激发出来。这个被激发的电子就是俄歇电子。这个过程被称为俄歇效应。Auger electron emission 入射电子束和物质作用,可以激发出原子的内层电子。外层电子向内层跃迁过程中所释放的能量,可能以X光的形式放出,即产生特征X射线,也可能又使核外另一电子激发成为自由电子,这种自由电子就是俄歇电子。对于一个原子来说,激发态原子在释放能量时只能进行一种发射:特征X射线或俄歇电子。原子序数大的元素,特征X射线的发射几率较大,原子序数小的元素,俄歇电子发射几率较大,当原子序数为33时,两种发射几率大致相等。因此,俄歇电子能谱适用于轻元素的分析。 如果电子束将某原子K层电子激发为自由电子,L层电子跃迁到K层,释放的能量又将L层的另一个电子激发为俄歇电子,这个俄歇电子就称为KLL俄歇电子。同样,LMM俄歇电子是L层电子被激发,M层电子填充到L层,释放的能量又使另一个M层电子激发所形成的俄歇电子。 只要测定出俄歇电子的能量,对照现有的俄歇电子能量图表,即可确定样品表面的成份。由于一次电子束能量远高于原子内层轨道的能量,可以激发出多个内层电子,会产生多种俄歇跃迁,因此,在俄歇电子能谱图上会有多组俄歇峰,虽然使定性分析变得复杂,但依靠多个俄歇峰,会使得定性分析准确度很高,可以进行除氢氦之外的多元素一次定性分析。同时,还可以利用俄歇电子的强度和样品中原子浓度的线性关系,进行元素的半定量分析,俄歇电子能谱法是一种灵敏度很高的表面分析方法。其信息深度为5nm以内,检出限可达到0.1%atom。是一种很有用的分析方法。系统组成 AES主要由超高真空系统、肖特基场发射电子枪、CMA同轴式筒镜能量分析器、五轴样品台、离子枪等组成。以ULVAC-PHI的PHI 710举例,其核心分析能力为25 kV肖特基热场发射电子源,与筒镜式电子能量分析器CMA同轴。伴随着这一核心技术是闪烁二次电子探测器、 高性能低电压浮式氩溅射离子枪、高精度自动的五轴样品台和PHI创新的仪器控制和数据处理软件包:SmartSoft AES ™ 和 MultiPak ™。并且,目前ULVAC-PHI的PHI 710可以扩展冷脆断样品台、EDS、EBSD、BSE、FIB等技术,深受广大用户认可。PHI710激发源,分析器和探测器结构示意图: 为满足当今纳米材料的应用需求,PHI 710提供了最高稳定性的 AES 成像平台。隔声罩、 低噪声电子系统、 稳定的样品台和可靠的成像匹配软件可实现 AES对纳米级形貌特征的成像和采谱。 真正的超高真空(UHV)可保证分析过程中样品不受污染,可进行明确、准确的表面表征。测试腔室的真空是由差分离子泵和钛升华泵(TSP)抽气实现的。肖特基场发射源有独立的抽气系统以确保发射源寿命。最新的磁悬浮涡轮分子泵技术用于系统粗抽,样品引入室抽真空,和差分溅射离子枪抽气。为了连接其他分析技术,如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE,标配是一个多技术测试腔体。 PHI 710 是由安装在一个带有 Microsoft Windows ® 操作系统的专用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 仪器操作软件来控制的。所有PHI电子光谱产品都包括执行行业标准的 PHI MultiPak 数据处理软件用于获取数据的最大信息。710 可应用互联网,使用标准的通信协议进行远程操作。AES的应用 扫描俄歇纳米探针可分析原材料(粉末颗粒,片材等)表面组成,晶粒观察,金相分布,晶间晶界偏析,又可以分析材料表面缺陷如纳米尺度的颗粒物、磨痕、污染、腐蚀、掺杂、吸附等,还具备深度剖析功能表征钝化层,包覆层,掺杂深度,纳米级多层膜层结构等。AES的分析深度4-50 Å,二次电子成像的空间分辨可达 3纳米,成分分布像可达8纳米,分析材料表面元素组成 (Li ~ U),是真正的纳米级表面成分分析设备。可满足合金、催化、半导体、能源电池材料、电子器件等材料和产品的分析需求。AES 应用的几种例子,从左到右为半导体FIB-cut,锂电阴极向陶瓷断面分析小结本文小编粗浅的介绍了俄歇电子能谱AES的一些基础知识,后续我们还会提供更有价值的知识和信息,希望大家持续关注“表面分析家”!
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- 2023-04-06 11:08:33玻璃钢成型一定要用双机一体模温机
- 模压成型(又称压制成型或压缩成型)是先将SMC玻璃钢材料放入成型温度下的模具型腔中,然后闭模加压而使其成型并固化的作业。如果说哪一步很重要,成型控温很重要!珞石的这款双机一体模温机就是专门用来玻璃钢成型的控温设备,可以减少瑕疵率提升模具型腔的使用寿命,你看看我分析的对不对。玻璃钢(FRP)亦称作GFRP,即纤维强化塑料,一般指用玻璃纤维增强不饱和聚酯、环氧树脂与酚醛树脂基体,玻璃钢成型时,双机一体模温机可以在生产过程精确的控制模具温度。我们都知道,在SMC玻璃钢成型过程中,要保证模具温度平衡,这样才能稳定模具温度,因为均匀稳定的模具温度,可以使玻璃钢材料在固化反应前期获得热量,加快反应速度。双机一体模温机的使用,在玻璃钢成型预热阶段,可以提高入模时的料温,缩短物料达到流动性的时间和成型周期。固化阶段保证物料内部温度的均一性,缩小物料与模具之间的温差,提高物料流动性的均匀程度,从而能降低模压成型压力,提高制品的物理机械强度。另外模温机还可以很好地解决模压温度过低导致的模压物料黏度高、流动性差等问题,从而改善玻璃钢制品外观无光泽、粘模、顶出变形的缺陷。双机一体模温机就是为了满足玻璃钢成型时模压成型上、下模温度不同要求,一台设备可以控制上下模具不同温度,节省空间结成本,操作使用也更便捷,包括设计中增加了吹气回油的小功能,让你在频繁更换模具的时候不会有油污或者滴油出来,你所想到的我们都能为您实现!
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- 2023-05-25 17:40:52绿色伏安法镍电镀槽液中稳定剂的测量
- 化学镀镍以其卓 越的耐腐蚀性和耐磨性、低成本、均匀的厚度以及在复杂基材上电镀的能力而闻 名,被广泛使用在如航空航天、建筑、电子、特别是在 PCB(印刷电路板)制造过程中。化学镀镍的过程在一个特定的镍电镀槽中进行。化学镀镍液通常包含几个关键成分,包括镍盐、还原剂、pH调节剂、稳定剂和络合剂。镀液的具体成分通常会有所不同,可能会添加额外的成分以实现特定的涂层性能或提高电镀效率。电镀槽与电镀液一旦在基材表面形成初始的镍层,电镀过程就会自发进行。此时,稳定剂在化学镀镍液中起着重要的作用,因为它们可以控制电镀速度并防止镀液分解。稳定剂浓度的波动可能会影响沉积速率、镀液稳定性等,因此,监测稳定剂的浓度在电镀过程中至关重要。常用的稳定剂包括 Pb、Bi 和 Sb(III) 等。镍电镀槽液中稳定剂监测解决方案更“绿色”的非汞电极解决方案伏安法(VA)使用电化学传感器来测定重金属离子。通过测量电流与外加电位的关系,可以确定溶液中不同离子的浓度。与其他分析技术如原子吸收光谱法(AAS)和电感耦合等离子体(ICP)光谱法相比,VA具有以下优点:VA拥有多项优势MVA-22全自动型伏安极谱仪伏安法的非汞时代更“绿色”的非汞电极解决方案多年来,汞电极广泛用于伏安法测定重金属。其有着高灵敏度、广泛的阴极极化范围等多重优点,十分适合于痕量重金属测定。但汞本身是有毒的,为了减少金属汞对环境的不利影响,瑞士万通开发了四种新型非汞电极。瑞士万通开发的非汞电极◆ scTRACE Gold 金电极◆ 11L丝网印刷电极◆ 玻碳(GC)电极◆ 铋(Bi)电极应用案例使用铋电极检测电镀液中的PbPb 是镍镀液中最有效的稳定剂之一。通常情况下,Pb 含量大约为1mg/L。我们将镀液样品进行稀释,通过阳极溶出伏安法(ASV)进行 Pb 浓度的测定。经过连续10次测量,回收率在94%和101%之间,相对标准偏差低于3%。我们对含有0.3 mg/L Pb 的镀液样品(NB1)使用铋电极进行测定,结果如下图所示。沉积时间60秒,Pb的测试结果为313µg/L此外,我们对两种不同样品(NB1和NB2)进行加标回收率分析,得到的结果如下。Pb的加标量分别为0.1mg/L, 0.3mg/L, 和 1.2mg/L使用scTRACE Gold金电极检测电镀液中的Bi和Sb(III)由于世界各地对 Pb 的管控,电镀行业开始使用 Bi 和 Sb(III) 作为 Pb 的替代品,在电镀过程中用作稳定剂。因此,Bi 和 Sb(III) 同样需要被监测,以保持电镀的最 佳条件。电镀液中Bi和Sb(III)的测定可以用scTRACE Gold 金电极来完成。测试样品中待测物浓度如下:在一系列连续的10次测量中,Bi的相对标准偏差低于4%,Sb(III)的相对标准偏差低于8%。Bi的回收率在103%到106%之间,Sb(III)的回收率在93%到110%之间。结果如下图所示。沉积时间30秒,Bi 的测试结果为99µg/LBi 的加标回收率测试沉积时间30秒,Sn(III) 的测试结果为95µg/LSn(III) 的加标回收率测试总结伏安法(VA)因为其灵敏度高,检出限低等特点十分适用于痕量重金属检测。瑞士万通全新非汞电极在实际使用中拥有不亚于传统汞电极的性能,是非汞时代的理想电极之选。
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