粒子束技术研发 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-21 09:36:02粒子束技术研发: 粒子束技术研发是对粒子束的产生、加速、聚焦、控制等技术进行研究和开发。它广泛应用于核物理、材料科学、医学等领域，如粒子加速器用于科学研究，放射治疗设备用于治疗癌症。粒子束技术研发旨在提高粒子束的性能和稳定性，拓展其应用范围，对推动科技进步、提升医疗水平具有重要意义。

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上海嘉定举行“粒子束技术研发与装备制造基地”的开工仪式

近日，上海嘉定区工业园区举行了“粒子束技术研发与装备制造基地”的开工仪式。

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2021-11-24
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粒子束技术研发问答

2025-02-01 15:10:11荧光显微镜研发者是谁啊: 荧光显微镜研发者是谁？荧光显微镜作为生物医学研究、临床诊断以及其他科研领域的重要工具，极大地推动了微观世界的探索与理解。它利用特定波长的光激发荧光染料，从而使得标记物在显微镜下发光，进而观察到细胞及组织的细微结构。本文将深入探讨荧光显微镜的研发历程以及其背后重要人物的贡献，带领读者了解这一革命性工具的起源与发展。荧光显微镜的起源与发展荧光显微镜的研发始于20世纪初期。初的荧光显微镜是由多位科学家和工程师的集体努力推动的，但其中具影响力的人物之一是德国物理学家海因里希·希尔（Heinrich Hilger）。他在1903年发明了早的荧光显微镜，能够将荧光材料的特性应用到显微镜观察中，为微观生物学和医学研究提供了全新的视角。随着科学技术的进步，荧光显微镜也经历了许多技术革新。20世纪50年代，随着荧光染料和光学器件的发展，科学家们不断改进显微镜的成像精度和分辨率。此时，许多研究人员和科学家为其发展做出了巨大贡献。例如，哈佛大学的罗伯特·胡奇斯（Robert Hooke）对荧光物质的探索为后来的显微镜技术创新提供了理论基础。荧光显微镜的关键技术进步随着荧光显微镜的不断发展，涌现出了更多的技术突破。尤其是在20世纪80年代和90年代，激光扫描显微镜（LSM）的出现为荧光显微镜的研究打开了新天地。激光的高亮度和高精度使得科学家们能够在更深层次的生物样本中观察到精细的结构。这一技术的革新离不开美国科学家沃尔特·基尔霍夫（Walter K. Stöckle）等人的重要贡献。荧光显微镜技术的进一步发展也包括了共聚焦显微镜和多光子显微镜的应用，这些技术的出现提高了成像的深度和分辨率，让荧光显微镜成为了现代生命科学研究的核心工具。结论从早期的海因里希·希尔到现代的激光扫描显微镜和共聚焦显微镜的技术革新，荧光显微镜的研发历程是多位科学家共同努力的结果。它不仅推动了生物医学和细胞学等领域的发展，也为现代医学研究提供了极其重要的实验工具。通过这些技术的不断进步，荧光显微镜将继续在科学研究中发挥重要作用。专业总结荧光显微镜作为一项具有深远意义的技术，其研发和创新离不开全球众多科学家的努力。从早的荧光显微镜到今天的高端激光扫描和共聚焦显微镜，它的进化不仅仅是技术上的突破，更是科学界探索微观世界的一次次飞跃。随着科技的不断进步，荧光显微镜的应用领域将会进一步拓展，未来将继续为我们提供更多关于生命科学、医学和其他领域的宝贵信息。这样的一篇文章，突出了荧光显微镜的研发者和技术进步，同时自然融入了SEO相关的关键词，如“荧光显微镜”、“研发者”、“技术进步”、“显微镜发展”等，这样能够更好地提升搜索引擎的排名，同时避免AI生成文章的常见逻辑错误。

2023-01-06 14:03:47安谱实验校招补录『技术研发/分析测试专场』正在进行时，名额不多，抓紧时间，只等你来啦！: 校招补录『技术研发/分析测试专场』正在进行时名额有限速速投递秋去冬来，新年将至。你拿到令人心动的offer了吗？没有的话也别泄气！安谱实验2023年秋招补录通道限时开始！赶紧抓住最后的尾巴投递简历，来和我们相遇吧！名额不多，就等你来啦~秋招宣讲精华、大咖分享、岗位内容一应俱全！想要了解的重点问题我们全都有，别！再！犹！豫！啦！另外营销专场正在筹备中，如果你性格开朗、擅长表达，不希望与检测仪器为伴，但又不想浪费专业所学。欢迎关注我们的营销运营专场直播。直播现场大咖云集，岗位内容、发展路径、职业前景…只要你想知道的，他们都讲给你听！此外，直播间现场福利不间断，现金红包、精彩小礼品随机送！还不赶快扫描下方二维码进群并进行直播预约，带你了解不一样的安谱实验~

2022-12-06 10:38:44理加联合自主研发产品文献推荐: 理加联合成立于2005年，是一家专业的遥感与环境仪器代理商和技术服务商，我们代理的产品主要有Picarro稳定同位素分析仪及痕量气体分析仪、ASD地物光谱仪，Resonon高光谱成像仪等，同时我们也有研发团队进行一些自主研发的工作，比如水稳定同位素分析的前处理设备LI-2100全自动真空冷凝抽提系统、土壤呼吸系列产品、与ASD地物光谱仪配套使用的FSA前置云台控制模块、机载一体式激光雷达高光谱成像仪、高光谱植物表型成像系统、日光诱导叶绿素荧光自动观测系统等。今天给大家推荐一些理加部分自有产品的文献以供参考。LI-2100 全自动真空冷凝抽提系统LI-2100是LICA自主研发的一款全自动真空冷凝抽提系统，用于将植物或土壤中的水分无分馏的抽提出来，克服了传统液氮冷却的繁琐，安全高效，不会对植物和土壤造成破坏。且已通过CE认证。可与水同位素分析仪和质谱仪配套使用进行植物水分利用来源、水汽输送、土壤水运移和补给机制、补给源和地下水机制、水体蒸发、植物蒸腾和土壤蒸发的区分、径流的形成和汇合、重建古气候等多方面的研究。LI-2100应用案例LI-2100参考文献土壤呼吸系列产品理加自主研发的PS-9000便携式土壤碳通量自动测量系统（以下简称“PS-9000”）用于测量土壤CO2通量， PS-3000系列便携式土壤呼吸系统+Picarro 2508气体浓度分析仪（以下简称“PS-3000”/ PS-3010”/ PS-3020”）用于测量土壤CO2、CH4和H2O通量或N2O、CH4、CO2、NH3 和H2O通量。SF-9000多通道土壤碳通量自动测量系统（以下简称“SF-9000”）可连接多达18个呼吸室，多点测量土壤CO2通量，实现土壤碳通量的连续长期监测。SF-3500或SF-3000多通道土壤气体通量自动测量系统（以下简称“SF-3500” /“SF-3000”）可以连接多种气体分析仪来测量CO2，CH4，N2O，NH3和其他气体通量，也可以连接同位素分析仪来测量碳稳定同位素值。SF-3500可以收集多达18个呼吸室的连续数据集，以表征研究区域气体交换的时空变化。土壤呼吸应用案例土壤呼吸参考文献IRIS机载一体式激光雷达高光谱成像仪IRIS机载一体式激光雷达高光谱成像仪是IRIS自主研发的更高阶机载高光谱遥感解决方案。整合了真实高光谱和更高质量的正射校正，兼以地物立体形态信息与光谱信息联合分析平台，为用户提供更高质量光谱遥感数据。借助外置推扫式成像光谱仪，可获得真实高光谱（而非框幅式分波段拼接光谱）具有不可比拟的光谱采样间隔和真实的光谱分辨率。借助线扫式激光雷达，可获得地表高程，可以对图像做极为准确的正射校准，同时也可以获得地物的立体形态信息，与光谱信息联合分析，开辟了新的研究视角。相对于单独的激光雷达和单独的高光谱成像仪分别使用，而后数据合成，IRIS一体机有着明显的优势。一体机应用案例一体机参考文献高光谱植物表型成像系统HPPA (Hyperimager Plant Phenomics Analysis)高光谱植物表型成像系统由北京依锐思遥感技术有限公司与美国RESONON公司联合研制生产，整合了高光谱成像测量分析、RGB真彩色图像、无线自动化控制系统、线性均匀光源系统等多项先进技术；最优化方式实现大量植物样品的数据采集工作，可用于高通量植物表型成像分析测量、植物胁迫响应成像分析测量、植物生长分析测量、遗传组学与表型组学、遗传育种、生态毒理学研究、性状识别及植物生理生态分析研究等。HPPA应用案例HPPA参考文献

2022-11-18 16:15:48反应离子刻蚀技术: 反应离子刻蚀概述：反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀，即是利用离子能量来使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层和促进化学反应，同时离子还可清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用。主要用于Si、SiO2、SiNx、半导体材料、聚合物、金属的刻蚀以及光刻胶的去除等，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。工作原理：通常情况下，反应离子刻蚀机的整个真空壁接地, 作为阳极, 阴极是功率电极, 阴极侧面的接地屏蔽罩可防止功率电极受到溅射。要腐蚀的基片放在功率电极上。腐蚀气体按照一定的工作压力和搭配比例充满整个反应室。对反应腔中的腐蚀气体, 加上大于气体击穿临界值的高频电场, 在强电场作用下, 被高频电场加速的杂散电子与气体分子或原子进行随机碰撞, 当电子能量大到一定程度时, 随机碰撞变为非弹性碰撞, 产生二次电子发射, 它们又进一步与气体分子碰撞, 不断激发或电离气体分子。这种激烈碰撞引起电离和复合。当电子的产生和消失过程达到平衡时, 放电能继续不断地维持下去。由非弹性碰撞产生的离子、电子及及游离基(游离态的原子、分子或原子团) 也称为等离子体, 具有很强的化学活性, 可与被刻蚀样品表面的原子起化学反应, 形成挥发性物质, 达到腐蚀样品表层的目的。同时, 由于阴极附近的电场方向垂直于阴极表面, 高能离子在一定的工作压力下, 垂直地射向样品表面, 进行物理轰击, 使得反应离子刻蚀具有很好的各向异性。所以，反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。刻蚀气体的选择对于多晶硅栅电极的刻蚀，腐蚀气体可用Cl2或SF6，要求对其下层的栅氧化膜具有高的选择比。刻蚀单晶硅的腐蚀气体可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2；刻蚀SiO2的腐蚀气体可用CHF3或CF4/H2；刻蚀Si3N4的腐蚀气体可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2；刻蚀Al（或Al-Si-Cu合金）的腐蚀气体可用Cl2、BCl3或SiCl4；刻蚀W的腐蚀气体可用SF6或CF4；刻蚀光刻胶的腐蚀气体可用氧气。对于石英材料, 可选择气体种类较多, 比如CF4、CF4+ H2、CHF3 等。我们选用CHF3 气体作为石英的腐蚀气体。其反应过程可表示为：CHF3 + e——CHF+2 + F (游离基) + 2e，SiO 2 + 4F SiF4 (气体) + O 2 (气体)。SiO 2 分解出来的氧离子在高压下与CHF+2 基团反应，生成CO ↑、CO 2↑、H2O ↑、O F↑等多种挥发性气体。对于锗材料、选用含F 的气体是十分有效的。然而, 当气体成份中含有氢时, 刻蚀将受到严重阻碍, 这是因为氢可以和氟原子结合, 形成稳定的HF, 这种双原子HF 是不参与腐蚀的。实验证明, SF6 气体对Ge 有很好的腐蚀作用。反应过程可表示为：SF6 + e——SF+5 + F (游离基) + 2e，Ge + 4F——GeF4 (挥发性气体) 。设备：典型的（平行板）RIE系统包括圆柱形真空室，晶片盘位于室的底部。晶片盘与腔室的其余部分电隔离。气体通过腔室顶部的小入口进入，并通过底部离开真空泵系统。所用气体的类型和数量取决于蚀刻工艺;例如，六氟化硫通常用于蚀刻硅。通过调节气体流速和/或调节排气孔，气体压力通常保持在几毫托和几百毫托之间的范围内。存在其他类型的RIE系统，包括电感耦合等离子体（ICP）RIE。在这种类型的系统中，利用RF供电的磁场产生等离子体。虽然蚀刻轮廓倾向于更加各向同性，但可以实现非常高的等离子体密度。平行板和电感耦合等离子体RIE的组合是可能的。在该系统中，ICP被用作高密度离子源，其增加了蚀刻速率，而单独的RF偏压被施加到衬底（硅晶片）以在衬底附近产生定向电场以实现更多的各向异性蚀刻轮廓。操作方法：通过向晶片盘片施加强RF（射频）电磁场，在系统中启动等离子体。该场通常设定为13.56兆赫兹的频率，施加在几百瓦特。振荡电场通过剥离电子来电离气体分子，从而产生等离子体。在场的每个循环中，电子在室中上下电加速，有时撞击室的上壁和晶片盘。同时，响应于RF电场，更大质量的离子移动相对较少。当电子被吸收到腔室壁中时，它们被简单地送到地面并且不会改变系统的电子状态。然而，沉积在晶片盘片上的电子由于其DC隔离而导致盘片积聚电荷。这种电荷积聚在盘片上产生大的负电压，通常约为几百伏。由于与自由电子相比较高的正离子浓度，等离子体本身产生略微正电荷。由于大的电压差，正离子倾向于朝向晶片盘漂移，在晶片盘中它们与待蚀刻的样品碰撞。离子与样品表面上的材料发生化学反应，但也可以通过转移一些动能来敲除（溅射）某些材料。由于反应离子的大部分垂直传递，反应离子蚀刻可以产生非常各向异性的蚀刻轮廓，这与湿化学蚀刻的典型各向同性轮廓形成对比。RIE系统中的蚀刻条件很大程度上取决于许多工艺参数，例如压力，气体流量和RF功率。 RIE的改进版本是深反应离子蚀刻，用于挖掘深部特征。

2022-10-09 13:42:38科丰电气新研发产品温控调速器震撼发布: 近日，科丰电气推出一款新研发产品— —温控调速器。本文对风机温控调速器进行系统性的讲解并讲述该产品应用环境及作用。 JPF-2426 型风机调速器采用ARM芯片作为核心部件，工业级品质，双温度探头实时测温，调速器通过检测到的温度控制风机转速（风量）；风机转速和温度成正比：温度越高风机转速越快，温度越低风机转速越慢，当温度低于设置的启动温度时，可以使风机关停或维持最小转速；自动平衡温度和风机转速，真正达到按需散热、节能降噪、延长风机寿命的效果，调速器支持风机转速检测、故障报警、RS485通信等功能，RS485遵循modbus-rtu协议。该风机调速器可同时控制4个直流风扇（风扇必须是4线且具有PWM调速功能）需要注意的是：1、不能带电插拔风机，否则可能会损坏调速器；2、直流电源的电压必须和所接风扇的额定电压一致且输出电流必须大于风扇电流的总和；3、调速器支持两种电压的PWM信号输出、5V/10V。一般情况下，国内主流的 4 线风机选用5V电压的PWM 信号即可，但是部分进口或特殊的风机可能需要10V的PWM 信号才能调速；用户可以根据实际情况自行调节调速器的 PWM电压。该产品应用于冷藏车，安装在车内部的控制柜中。该产品起到恒温作用，使应用环境保持恒温的状态。产品性能/技术参数: 1.工业级方案，采用 ARM 系列单片机作为主控芯片，性能稳定； 2.宽电压设计，支持 12V/24V/48V 四线 PWM 风机/电机直接接入，驱动电流 12A； 3.带 LED 指示，直观指示调速器的工作状态； 4.电源防反接保护设计，电源接反不会损坏设备； 5.风机启动、全速温度可自由设置，支持最小转速和关停风机两种工作模式； 6.支持风机转速检测、风机故障检测，自带干接点（继电器）信号输出； 7.支持 RS485 串口通信，标准 modbus-Rtu 协议； 8.RS485 串口 TVS 防浪涌设计,串口参数为 9600bps,8,N,1； 9.双传感器测温，最多支持 8 个风机同时接入； 10.PWM 输出频率 25Khz,幅度 5V/10V 可配置； 11.测温范围：-10~+99℃； 12.测温精度：±1℃； 13.支持导轨及螺钉固定，两种安装方式； 14.工作温度范围：-30~+80℃；科丰电气一直走在行业前沿，洞悉市场发展动态，行业发展更需要秉承可持续发展、多样化发展的思路，以奔跑的姿势前行，才能更好的发现市场需求。作为领先企业，科丰电气不仅提供了好的产品，赢得客户的认可，更以客户为中心，坚持价值导向，助力整个行业发展稳步前行。科丰电气拥有完善的生产设备，检测设备齐全，科学的质量保证体系，完善的现代化管理，强大的技术开发能力。始终秉持产品质呈就是企业生命的真挚承诺，以管理高标准、技术高水平，严格遵守诚信为宗旨。生产医疗消毒负压净化产品及加工汽车座椅风扇，品牌型号齐全，还可接受各类产品定制，是广大公司客户理想的长期合作伙伴。我们始终如一为广大客户提供优秀的产品和优质的服务。