介观显微物镜 - 产品信息 - 相关知识

2025-04-25 14:13:34介观显微物镜: 介观显微物镜是专为介观尺度成像设计的显微镜物镜，其介于宏观与微观之间，适用于观察细胞集群、组织切片等样本。该类物镜具有高分辨率、大视野的特点，能够清晰呈现样本的细微结构和形态特征。同时，它通常配备有高数值孔径，以确保足够的光线收集能力，从而提升成像质量。此外，介观显微物镜还具备良好的色彩还原性和对比度，为科研工作者提供准确的图像信息。

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D7点衍射激光干涉仪用于测量介观显微物镜的检测方案

昊量光电推出一种测量介观显微物镜的检测方案，它使用D7点衍射激光干涉仪检测，这种方案具备以下优点：1.无需参考镜；2.可在全光谱范围VIS + NIR下进行；3.可选择不同的工作波长范围等

 上海昊量光电设备有限公司 29
2025-04-15
D7点衍射激光干涉仪介观显微物镜全光谱范围VIS + NIR

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介观显微物镜问答

2023-06-25 11:49:58课堂 | 目镜、物镜和光学畸变: 对于大多数显微镜应用，通常只有两套光学器件需要由用户调整，即物镜和目镜。当然，这是假设显微镜已经校正了科勒照明，即调整了聚光镜和光阑。本文首先介绍了目镜组件以及如何正确调整它们以适应你的眼睛。其次是物镜，我们将探讨光学畸变和四种最常见的物镜，这些物镜均经过校正以克服这些异常现象。在制造商的设计中，显微镜的目镜和物镜是一个组合，并在光学上相互补充。如果你出于任何原因更换显微镜之间的目镜或物镜，那么应该记住这一点。为获得最佳的样本图像，显微镜的物镜和目镜必须是一个和谐的工作组合。购买完整的显微镜时，光学部件相互匹配，为用户提供最佳的观察条件。如果你在组装一个定制的研究级显微镜，那么选择的物镜将决定适合的目镜，反之亦然。目镜目镜是我们观察最终样本图像的光学镜片（见图1）。这些光学器件有时被称为“接目镜”或“目镜”。放大率除了取决于物镜的选择，还要考虑目镜，它的放大率通常是10的倍数。目镜是显微镜的一个看似简单的光学部件。一些基础款目镜确实是由一个顶部和底部安装镜片的金属管组成但许多研究级目镜由多组相互配合的镜片组成，它提供样本的校正视图，并补充物镜的特性。无论目镜的组件设计如何，金属外壳的两端只有两个用户可以看到的镜片。观察最终图像的镜片（最接近眼睛）被称为“目镜”，另一端的镜片（朝向显微镜主体）被称为“场镜”。图1：显微镜的最终图像可以用目镜观察，也叫接目镜。你通常会在目镜周围发现橡胶或塑料眼罩（见图2）。这些眼罩有多种功能。它们会阻挡一些环境光线，让观察者可以更清楚地看到感兴趣的样本。此外，它们还将用户限制在与目镜的最佳距离内。如果您佩戴眼镜，可以简单地将它们卷到目镜的顶部，或者摘掉眼镜。关于显微镜卫生需注意的一点：如果你在共享的实验室或设施中使用显微镜，卫生和清洁都是重要的因素。一个重要的考虑因素是眼部感染。如果你不幸有眼部感染，则应避免使用共享显微镜，直到感染症状完全消失。眼部感染可能具有高传染性，很容易传播给其他显微镜使用者。无论您的眼睛是否健康，您都应该将目镜和眼罩（以及整个显微镜）保持在清洁状态，以便于下一个用户的使用。目镜屈光度的调整显微镜用户需要调整目镜适应自己的视力。这被称为“屈光度调节”，用于纠正眼睛之间的焦点和视觉差异（见图2）。除非您有完美的正常视力（也称为“20/20视力”），否则为更清晰地观察样本，您需要完成这一简单的调整。在调整屈光度之前，首先应调整目镜之间的距离（假设您使用的是双目显微镜）以适应使用者的生理结构。双目目镜安装在一个水平的“滑块”上，两个目镜可以活动以适应眼睛之间的距离。或者，每个目镜都安装在独立的外壳中，能够以半圆形的旋转方式移动，配合使用者眼睛之间的距离。设置好物理距离后，就可以调节屈光度。检查每一个目镜时，您会注意到至少有一个目镜的金属体或外壳周围有一个滚花环（另一个也可以是固定焦点目镜）。仅通过固定目镜向下看，并使用显微镜的主调焦轮让样本进入清晰的焦点。闭合固定焦距目镜上的眼睛，仅使用可调节光圈的目镜来观察样本。保持样本的原始焦点的同时，慢慢转动屈光度环，直到样本进入清晰的焦点。当你睁开双眼时，样本现在应该处于清晰的焦点。调整屈光度厚，每个所选物镜的设置都是一样的。图2：大多数目镜都有可移动或可弯曲的眼罩，用于阻挡一些环境光线。此外，它们还可以将用户限制在与目镜的最佳距离内。佩戴眼镜的用户应该摘下眼罩。借助屈光度调节，可以根据用户的屈光度对目镜进行个性化设置。光学畸变显微镜（以及在本文的范围内）有两种主要类型的光学畸变：色差和几何像差。几何像差（也被称为“单色差“或“球面像差”）也被称为“塞德尔像差”。菲利普·路德维希·冯·塞德尔(Philipp Ludwig von Seidel)（1821-1896）是一位德国数学家，他在1857年确定了五种几何像差（球差、慧差、像散、场曲和畸变）。一般来说，几何/单色/赛德尔像差是由于镜片的结构和几何形状，以及光在通过镜片时的折射和反射方式而产生。考虑到所有可能通过曲面镜片的光波，通过镜片中心的光波将比通过曲面镜片边缘的光波的折射率低。通过镜面之前平行的光波不会汇聚到一个焦点上，而是作为不同的点沿光轴传播（图3）。图3：球面像差描述了这样一个事实：通过镜片中心的光波比通过曲面镜片边缘的光波的折射率要小。因此，在通过透镜之前是平行的光波不会汇聚到一个焦点上。色差主要是由于镜片的材料而发生的。白光是由许多不同的波长/颜色组成的，当它通过凸透镜时，它被分割成不同的组成部分。波长的分裂意味着，一旦光线通过透镜，各组成颜色就不会彼此聚焦在同一个汇聚点上（图4）。图4：通过凸透镜的白光被分割成不同的波长，并在不同程度上被折射。因此，它们不会汇聚在同一个焦点上。这种现象被称为色差。物镜图5：一个带有校正环的甘油浸泡物镜。显微镜物镜的制造和校正是为了在每个光学部件中考虑一个或多个这样的像差。在物镜外壳上蚀刻的信息中（除了放大率、物镜类型、数值孔径（NA）等），还包括有关光学校正的信息（见图3）。尽管有许多可用的光学校正，但本文将探讨可能遇到和使用的四种最常见的光学校正。除了目镜之外，物镜看起来也很简单。物镜两端的两个透镜被称为“前透镜”（离样本最近）和“后透镜”。后透镜在使用过程中不可见，因为它面向显微镜的主体。大多数物镜由一系列相对复杂的镜片组成，镜片相互补充，纠正其他扭曲的光学像差。消色差物镜最常见的校正显微镜物镜是“消色差”物镜。这种物镜的镜筒上有缩写“Achro”或“Achromat”。这些物镜校正“轴向色差”。当白光通过凸透镜时，会发生这种像差。因此，白光被分割成红、绿和蓝色波长。这种分裂意味着这些波长不会汇聚到光轴上的同一个焦点上（见图4）。如果使用没有校正轴向色差的物镜观察样本，那么样本周围会出现彩色条纹和图像的模糊。非色差物镜只校正了两个波长（红色和蓝色），使其与绿色波长的焦点大致相同。此外，消色差物镜的球面像差也只针对一种颜色进行了校正。平场消色差物镜更高一级的校正是在“平场消色差”物镜中发现的。这些通常由物镜筒上的缩写“平场消色差”或“Achroplan”来识别。除了校正轴向色差外，这些物镜还校正一种被称为“场曲率”的光学现象。当光线通过曲面镜片时，便会发生这种现象。投射的图像导致样本的视图发生弯曲。如果使用未校正视场曲率的物镜观察样本，会导致整个视场的焦点不均匀。视场的边缘或中心可能被聚焦，但不是同时聚焦。虽然这不会影响样本的日常观察和检查，但如果你想拍摄用于发表的图像，就会有问题。在这种情况下，建议使用平场消色差物镜校正平场，实现整个图像视图的均匀聚焦。半复消色差物镜再高一级的校正物镜是“半复消色差”或“萤石”物镜。这些物镜由物镜筒上的缩写“Fluar”、“Fluor”、“Fluo”或“Fl”来识别。术语“萤石”可以追溯到一个时期，当时这种镜片是由萤石制造的，它是一种氟化钙矿物。在商业上，这种矿物也被称为“萤石”，并且仍然被用于制造一些半复消色差镜片，尽管现在大多数都是由合成材料制成的。半复消色差物镜对一种或两种组成色进行校正，确保不同的光波集中在一起，成为光轴上所谓的“最小混淆圈”。除了上述外观上的缩写外，还有一些带有“Plan FL”或“Plan Fluor”名称的物镜。这些物镜不仅校正了球差和色差，而且还校正了视场曲率。复消色差物镜最高级别的校正物镜（反映在这些光学器件的成本上）是“复消色差”物镜。这些物镜在镜筒上有“Plan Apochromat”、“PL APO”或“Plan Apo”的缩写（见表1）。这些物镜对场曲率进行了校正（因此缩写名称中的“Plan”），并对红、绿和蓝色波长进行了色度校正。此外，复消色差物镜还对三个波长进行了球面校正。在复消色差透镜中的高水平校正，相比校正较少的物镜，在同等放大率下，可产生更高的NA。徕卡的校正物镜关于徕卡不同类别校正物镜的概述，可以通过以下链接找到（见表1）。此外，通过填写页面上的在线表格，徕卡可以帮助您找到您的应用所需的合适物镜。表1：国际标准化组织(ISO)区分了三组物镜类别，它们在色度校正的质量上有所不同。消色差、半复消色差和复消色差。徕卡的命名法进一步区分了这些组别，例如，它们的场平度、透射率等。徕卡物镜上使用的进一步的缩写。表2：特别适用于特定对比法的物镜都有相应的标记。表3：必须与某一物镜一起使用的浸泡介质在物镜上标明。表4：徕卡物镜上提到的更多标签。

2025-04-23 14:15:19电子探针显微分析方法有哪些？: 电子探针显微分析方法电子探针显微分析方法（Electron Probe Microanalysis, EPMA）是一种利用电子束与样品相互作用原理来进行元素分析和成分分析的技术。该技术广泛应用于材料科学、地质学、冶金学等领域，是研究微观结构、元素分布以及样品成分的关键工具。通过高精度的分析，电子探针显微分析方法能够提供极为详尽的样品元素信息，并为科学研究和工业应用提供可靠的数据支持。本文将介绍电子探针显微分析的基本原理、应用领域及其优势。电子探针显微分析的基本原理电子探针显微分析方法基于电子束与样品相互作用后产生的各种信号，如特征X射线、二次电子和背散射电子等。通过测量这些信号，能够获得样品的元素组成和空间分布信息。具体来说，电子探针显微分析通过聚焦电子束在样品表面激发特征X射线，这些X射线的能量与元素的原子结构相对应，因此可以通过对X射线进行能量分析来确定样品中各元素的种类和含量。在实际操作中，电子束的能量通常设置在10-30kV之间，能够深入样品的表面层并激发X射线。这些X射线的强度与样品中相应元素的浓度成正比，通过对X射线谱图的定量分析，研究人员可以精确地测定元素的分布和含量。电子探针显微分析的应用领域材料科学电子探针显微分析技术在材料科学中有着广泛应用。尤其是在金属合金、陶瓷、复合材料等的成分分析中，EPMA能够提供高空间分辨率和定量分析能力。通过对材料微观结构的研究，科学家们可以了解材料的性能、相变以及在不同条件下的行为，从而优化材料的设计和性能。地质学在地质学研究中，电子探针显微分析方法被广泛应用于矿物学和岩石学研究。通过分析矿物和岩石样品的元素组成，EPMA能够帮助地质学家解读地质过程、岩浆活动、矿产资源的成因以及沉积环境等信息，为资源勘探和环境保护提供有力支持。生命科学在生物医学领域，电子探针显微分析也有着重要的应用。通过对细胞和组织样本进行元素分析，研究人员可以探索生物体内微量元素的分布，帮助揭示生物体的代谢过程和疾病机制。例如，通过EPMA分析癌细胞与正常细胞中的元素差异，有助于癌症早期诊断和策略的优化。电子探针显微分析的优势与传统的分析方法相比，电子探针显微分析在空间分辨率和分析精度方面具有明显优势。EPMA具有极高的空间分辨率，能够对微米甚至纳米尺度的样品进行高精度分析，适用于复杂的微观结构研究。EPMA具备较强的元素分析能力，能够对多种元素进行定性和定量分析，尤其适合于分析复杂样品中的微量元素。EPMA分析无需对样品进行复杂的化学预处理，能够直接在固体样品表面进行分析，具有较高的分析效率。总结电子探针显微分析方法是一项高精度的材料分析技术，凭借其的空间分辨率和元素分析能力，在多个领域发挥着重要作用。从材料科学到生命科学，EPMA技术为研究者提供了深入理解样品成分和微观结构的强大工具。随着技术的不断进步，电子探针显微分析在科研和工业中的应用前景将更加广阔，并为推动科技创新和产业发展作出更大的贡献。

2022-09-26 14:33:37荧光显微系统的新高度——Luminosa单光子计数共聚焦显微: 过去的几十年中，德国PicoQuant的研发人员一直致力于制造最具定量性和重复性的时间分辨荧光显微镜系统。现在他们终于迈出了这一步，完成了一套更易于使用、且不影响灵敏度的系统。该系统打破常规，无需培训物理学支持人员便可轻松使用。全新的Luminosa可以让每个分子生物物理学或结构生物学研究人员轻松地将单分子和时间分辨荧光显微镜的方法添加到他们的“工具箱”中。Luminosa系统的主要功能包括一键式自动对准程序和基于上下文的直观工作流程。例如，系统可以自动识别单个分子，或者它可以自动确定单个分子FRET (smFRET) 的校正因子。对于经验丰富的专家，它仍具有先进的灵活性。所有光机组件均可访问，数据以开放格式存储，工作流程和图形用户界面均可定制。用户可以完全访问实验参数，例如可调节的观察量。全新的Luminosa本身就是一套时间分辨荧光显微的多功能“工具箱”。它用于单分子水平的动态结构生物学研究。这些方法包括荧光寿命成像 (FLIM)、用于快速过程的rapidFLIMHiRes、FLIM-FRET、单分子FRET（突发和时间跟踪分析）、荧光相关光谱 (FCS)、各向异性成像和微分干涉对比 (DIC) 成像。随着时间分辨荧光显微技术的用户群体不断扩大，对高重复性、高准确性和宝贵实践经验规则的需求变得尤为明显。Luminosa已经包含了科学家集体努力制定的经验指南，例如来自于单分子FRET群体在基准研究中的经验指南。Luminosa 是一款将超高数据质量与超简日常操作相结合的单光子计数共聚焦显微镜。它可以轻松集成到任何研究人员的“工具箱”中，成为开始探索使用时间分辨荧光方法科学家以及想要突破极限专家的省时、可靠的“伙伴”。它是一个真正的显微镜系统，每个人都可以依赖。产品特点：◆ 全软件控制共聚焦系统，基于倒置显微镜◆ 激光波长从375到1064 nm可选◆ VarPSF：观察量高精度调节，用于FCS和单分子FRET实验◆ 电动平移台，可在传动和FLIM模式下进行“图像拼接”◆ 扫描选项：FLIMbee振镜扫描和压电物镜扫描◆ 最多可集成SPAD, PMT或Hybrid-PMT组成相互独立的6通道探测单元◆

2022-11-02 14:15:47尔迪介绍|Bruker Hysitron TI 980产品介: 布鲁克的 Hysitron TI 980 TriboIndenter 同时具有大性能、灵活性、可靠性、可用性和速度。这台行业的系统以数十年的 Hysitron 技术创新为基础，在纳米力学特性测试方面提供更高水平的非凡性能、增强的功能的多功能性。Hysitron TI 980 纳米压痕仪是在准确控制、测试带宽、测试灵活性、适用性、测量可靠性和系统模块化方面都取得了显著进步。简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。技术参数1）样品尺寸：≤100mm×100mm×50mm； 2）样品台移动范围：≤250mm×150mm；3）低载最大压入位移≥5μm，高载最大位移≥80μm；4）SPM原位扫描成像: 分辨率约100nm；5）高温样品加热台温度：≤600 ℃；6）环境温漂：≤0.05nm/s。 Bruker Hysitron TI 980应用行业：表征材料表面微/纳米尺度内的强/硬度、弹性模量，蠕变、应力松弛、断裂韧性、屈服强度（Pillars）、残余应力和结合力，测量得到材料载荷—位移曲线，主要应用于生物材料、金属材料、膜材料、聚合物材料、无机非金属材料等领域。上海尔迪仪器科技有限公司代理Hysitron TI 980，更多详细资料，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797！021-61552797！

2023-07-25 10:40:14半导体和钙钛矿材料的高光谱（显微）成像: 目前在光伏业界，正在进行一项重大努力，以提高光伏和发光应用中所用半导体的效率并降低相关成本。这就需要探索和开发新的制造和合成方法，以获得更均匀、缺陷更少的材料。无论是电致还是光致发光，都是实现这一目标的重要工具。通过发光可以深入了解薄膜内部发生的重组过程，而无需通过对完整器件的多层电荷提取来解决复杂问题。HERA高光谱照相机是绘制半导体光谱成像的理想设备，因为它能够快速、定量地绘制半导体发射光谱图，且具有高空间分辨率和高光谱分辨率的特性。硅太阳能电池的电致发光光谱成像光伏设备中的缺陷会导致光伏产生的载流子发生重组，阻碍其提取并降低电池效率。电致发光光谱成像可以揭示这些有害缺陷的位置和性质。"反向"驱动太阳能电池（即施加电流）会产生电致发光，因为载流子在电极上被注入并在有源层中重新结合。在理想的电池中，所有载流子都会发生带间重组，这在硅中会产生1100 nm附近的光（效率非常低）。然而，晶体结构中的缺陷会产生其他不利的重组途径。虽然这些过程通常被称为"非辐射"重组，但偶尔也会产生光子，其能量通常低于带间发射。捕获这些非常罕见的光子可以了解缺陷的能量和分布。在本实验中，我们使用了HERA SWIR (900-1700 nm)，它非常适合测量硅发光衰减。测量装置如图1所示：HERA安装在三脚架上，在太阳能电池上方，连接到一个10A的电源。640×512像素的传感器安装在样品上方75厘米处，空间分辨率约为250微米。图1. 实验装置最重要的是，HERA光学系统没有输入狭缝，因此光通量非常高，是测量极微弱光发射的理想选择。图2.A和2.B显示了两个波长的电致发光（EL）图像：1150 nm（带间发射）和1600 nm（缺陷发射），这是4次扫描的平均值（总采集时间：5分钟）。通过分析这些图像，我们可以看到，尽管缺陷区域的亮度远低于主发射区域，但它们仍被清晰地分辨出来。此外，具有强缺陷发射的区域的带间发射相对较弱。我们可以注意到有几个区域在两个波长下都是很暗的；这可能是由于样品在运输过程中损坏了电池造成的。图2.C中以对数标尺显示了小方块感兴趣区域（图2A和2B中所示）的光谱。图 2.A 和 B：两个选定波长（1150 nm 和 1600 nm）的电致发光（EL）图像。C：A和B中三个不同区域对应的电致发光光谱（图像中的彩色方框）。金属卤化物钙钛矿薄膜的光致发光显微研究通过旋涂等技术含量低、成本效益高的方法，可以制造出非常高效的太阳能电池和LED。这些方法面临的一个挑战是在微观长度的尺度上保持均匀的成分。光致发光显微镜是表征这种不均匀性的一个特别强大的工具。HERA高光谱相机可以连接到任何显微镜（正置或倒置）的c-mount相机端口，并直接开始采集高光谱数据，无需任何校准程序。图3. 与尼康LV100直立显微镜连接的HERA VIS-NIR。在本实验中，我们使用HERA VIS-NIR（400-1000 nm）耦合到尼康LV100直立显微镜（图3）来表征两种卤化物前驱体合金的带隙分布。将两种卤化物前驱体合金化的优点是能够调整材料的带隙；然而，这两种成分经常会发生逆混合，从而导致性能损失。本实验的目的是检测这种逆混合现象：事实上，混合比的局部变化会改变局部带隙，从而导致发射不同能量的光子。在这种配置中，激发光来自汞灯，通过带通滤光片在350 nm处进行滤光，并通过发射路径上的二向色镜将其从相机中滤除。HERA的高通量使其能够在大约1分钟的测量时间内收集完整的数据立方体（130万个光谱）。图4.样品的光谱综合强度图（A：全尺寸；B：放大）。图4.A和4.B分别显示了所有波长（400-1000 nm）总集成信号的全尺寸和放大图像，揭示了长度尺度在1 µm左右的明亮特征。当我们比较亮区和暗区的光谱时（图5.B中的黑色和红色曲线），我们发现暗区实际上也有发射，不仅强度较低，而且波长中心比亮区短。事实上，光谱具有双峰形状，很可能与逆混合前驱体的发射相对应。图5.A的发射图清楚地显示了带隙的这种变化。我们现在可以理解为什么低带隙区域看起来更亮了--载流子可能从高带隙区域弛豫到那里，并且在发生辐射重组之前无法返回。图5.A：显示平均发射波长的强度图。B：亮区和暗区的发射光谱（正常化）。东隆科技作为NIREOS国内总代理公司，在技术、服务、价格上都具有优势。如果您有任何产品相关的问题，欢迎随时来电垂询，我们将为您提供专业的技术支持与产品服务。

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