2025-01-20 11:06:35ald设备

ALD设备（原子层沉积设备）是一种用于制造纳米材料和薄膜的先进设备。其基本原理是通过将反应前驱体交替脉冲通入反应腔，并在样品表面发生化学吸附反应，形成单层原子或分子层，通过重复该过程实现薄膜的逐层沉积。ALD设备广泛应用于半导体、太阳能电池、催化剂等领域，具有薄膜厚度均匀、成分精确可控、可制备复杂结构等优势。

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牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备

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等离子增强型原子层沉积设备（ALD）- TFS200

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德国Sentech 原子层沉积设备 SI ALD / SI PEALD

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ALD原子层沉积设备-SVT

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TRIMETHYLALUMINUM FOR CAMBRIDGE NANOTECH INC ALD S

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