内燃机车通用技术条件 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-21 09:31:43内燃机车通用技术条件: 内燃机车通用技术条件是指内燃机车在设计、制造、验收及运用等方面应满足的基本要求。这些条件涵盖了机车的动力性能、制动性能、安全性、可靠性、舒适性以及环保性能等多个方面。它确保了内燃机车能够高效、稳定地运行，并符合相关的行业标准和法规要求。这些技术条件对于保障铁路运输的安全和效率具有重要意义。

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英文译本正式发布《铁路信号继电器试验方法》等9项国家标准

该9项标准英文译本是中国铁路技术标准体系翻译工作的重要组成部分，其发布对于推进中国铁路标准国际化、服务“一带一路”建设和推动中国铁路“走出去”具有重要意义。

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2021-02-10
英文译本内燃机车通用技术条件标准轨距铁路机车铁路信号继电器

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: 石油产品运动粘度试验器技术条件; 国内山东; ￥4800; 山东盛泰仪器有限公司
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内燃机车通用技术条件问答

2025-04-07 13:45:14浮游生物采集条件是什么: 浮游生物采集条件是什么浮游生物是水体生态系统中重要的组成部分，其种类繁多，广泛存在于海洋、湖泊和河流等水域中。它们不仅是水域食物链的基础，还对水体的生态环境具有重要影响。因此，准确地采集浮游生物成为生态研究、环境监测及水产养殖等领域的基础工作之一。本文将探讨浮游生物采集的条件，分析采集工具、采集时间、采集地点和采集方法等影响因素，以确保浮游生物样本的代表性和采集数据的准确性。采集工具浮游生物采集工具的选择对样本质量有直接影响。常用的采集工具包括浮游生物网、浮游生物采样器和透明水瓶等。浮游生物网通常用于在不同水层中采集浮游生物，通过网孔大小的调整可以控制采集到的浮游生物种类及其尺寸。而浮游生物采样器则常用于大规模采集，尤其适用于水体深度较大的区域。根据研究目的的不同，选择合适的工具能够提高采样的精度。采集时间浮游生物的种类和数量与时间密切相关，不同季节和不同时间段的采集结果可能会有显著差异。浮游生物的分布通常在一天内存在较大的变化，白天与夜间的种群结构不同，因此，在选择采集时间时，需要考虑目标物种的活动规律。通常，清晨和黄昏时段是浮游生物采集的黄金时间段，因为此时浮游生物较为集中，采样效果佳。采集地点选择适当的采集地点也是确保采样成功的关键因素。浮游生物的分布与水体的温度、盐度、光照、营养物质浓度等环境因素息息相关。一般来说，浮游生物集中在水体的表层，尤其是光照充足、营养丰富的区域。因此，采集时应根据具体水域的环境条件，选择浮游生物分布较为集中的地方进行采样。不同的水体类型（如淡水或咸水）对浮游生物的种类和数量有很大的影响，采样时需加以区分。采集方法采集浮游生物的方法多种多样，常见的是通过过滤水样进行采集。根据目标物种的大小，选择适当孔径的过滤网对水体进行过滤，以收集所需的浮游生物样本。深水区域的采集通常采用垂直采样法，从水面到水底不同深度进行逐层采样。这种方法可以提供更全面的浮游生物数据，尤其适用于研究水体垂直分布的浮游生物种群。结语浮游生物的采集条件涉及多个方面，从采集工具的选择到采集时间、地点及方法，每一环节都直接影响终采样结果的准确性与代表性。为了确保研究数据的有效性，采集工作必须结合实际环境条件，并采用科学的操作流程。

2024-10-25 15:46:52拉曼光谱仪使用方法有哪些？通用规范是什么？: 拉曼光谱仪使用方法拉曼光谱仪是一种重要的分析工具，广泛应用于化学、材料科学、生物医学等领域，能够通过分析分子振动、转动和其他低频模态的信息，获取样品的化学成分及其结构特征。本文将详细介绍拉曼光谱仪的使用方法，包括设备准备、样品处理、数据采集和分析，以帮助用户充分发挥该仪器的优势，实现准确的实验结果。1. 设备准备在使用拉曼光谱仪之前，首先需要对设备进行仔细的准备。确保仪器的光源正常工作，常用的光源有氦-氖激光器和二氧化碳激光器。检查光路系统，确保光路清晰，无杂质和灰尘。在仪器启动前，好进行一次预热，特别是对于固态激光器，这可以提高激光的稳定性和发射效率。2. 样品准备样品的准备对拉曼光谱的结果有着重要影响。不同类型的样品需要不同的处理方法。对于固体样品，可以直接放置在样品台上，而对于液体样品，则需要使用适当的样品池。在处理粉末样品时，建议将其压制成薄片，以减少光散射的影响。在样品准备过程中，还应注意避免样品污染，以确保实验的准确性。3. 数据采集数据采集是拉曼光谱实验的核心环节。设置适当的激光波长和功率，激光功率过高可能导致样品热分解或光损伤，影响数据质量。在调整光路时，要确保拉曼散射光能够有效进入光谱仪的探测器。启动数据采集时，可以选择合适的积分时间和扫描次数，以平衡信号强度与噪声比。在整个过程中，注意监测光谱的实时变化，必要时可以进行调整。4. 数据分析一旦数据采集完成，接下来就是数据分析。拉曼光谱的特点是其特征峰对应的波数与分子的振动模式密切相关。使用专业软件对光谱进行分析，识别特征峰的位置和强度，进而推断样品的化学成分。常用的方法包括峰的拟合、比较和定量分析。可以通过与已有数据库中的标准光谱进行比对，以确认样品成分。5. 注意事项在操作拉曼光谱仪时，有几点注意事项需要牢记。操作者应具备基本的光谱知识和实验技能，以避免由于人为操作失误导致的数据偏差。要定期对设备进行维护和校准，确保仪器的长期稳定性。在实验过程中，保持良好的实验记录，详细记录样品信息、实验条件及结果，以便后续分析和重复实验。

2022-12-26 21:04:06小核磁安装条件: 小核磁安装条件小核磁指哪类核磁仪器？小核磁又称小核磁分析仪，由于体型较小，被形象的称为小核磁。小核磁一般泛指低场强核磁共振系统，主要从分子运动角度研究样品。小核磁主要用于高校科研、企业研发、工业质检质控。小核磁结构紧凑，性价比高，使用方便，日常维护简单，能够应用于食品、农业、材料、能源、纤维、岩土等多个领域。小核磁仪器小巧，无需特殊安装场所，安装方便。小核磁一般为永磁体，无需制冷剂。维护检修方便，漏磁小，使用安全，维护成本低。小核磁的组成：小核磁主要由磁体单元、射频单元、谱仪单元和温控单元几个部分组成。磁体单元可提供均匀、稳定的主磁场；射频单元用于射频放大与样品激励；谱仪单元是小核磁分析仪的控制系统；温控单元主要功能是对磁体进行米青准控温。小核磁的工作原理原子核，如氢和氟等，都带有正电荷，这些原子核本身具有一个重要的属性，那就是其自旋。一个带电的自旋体就产生一环形电流，而一环形电流便可形成一磁场。这样，每一个原子核就是一个小磁体，也就像小指南针。在无外加磁场时，物质中的原子核磁场的指向是无规则杂乱分布的。当将物品放入一外加磁场中时，原子核就要与外加磁场发生相互作用，其作用的结果就是原子核磁场的方向排布有序，一部分原子核磁场的指向沿着外加磁场的方向，另一部分的原子核的指向与外加磁场方向相反，使样品中原子核之间产生了热能差别，即出现了能级。当原子核在两个能级间跃迁时，便有核磁共振信号产生。小核磁安装条件小核磁安装环境要求1.常温实验室环境，环境温度22-28度，仪器室应该安装空调。2.需要一张结实的桌子，用于放置小核磁仪器；3.仪器应该放置在没有振动的地方，远离通风口、电梯、避免阳光直射；小核磁安装电源要求1.供电电压范围：AC200V~240V;2.供电频率：50Hz;3.与仪器相连的电源的地线必须可靠接地。小核磁安装效果

2022-11-18 16:15:48反应离子刻蚀技术: 反应离子刻蚀概述：反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀，即是利用离子能量来使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层和促进化学反应，同时离子还可清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用。主要用于Si、SiO2、SiNx、半导体材料、聚合物、金属的刻蚀以及光刻胶的去除等，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。工作原理：通常情况下，反应离子刻蚀机的整个真空壁接地, 作为阳极, 阴极是功率电极, 阴极侧面的接地屏蔽罩可防止功率电极受到溅射。要腐蚀的基片放在功率电极上。腐蚀气体按照一定的工作压力和搭配比例充满整个反应室。对反应腔中的腐蚀气体, 加上大于气体击穿临界值的高频电场, 在强电场作用下, 被高频电场加速的杂散电子与气体分子或原子进行随机碰撞, 当电子能量大到一定程度时, 随机碰撞变为非弹性碰撞, 产生二次电子发射, 它们又进一步与气体分子碰撞, 不断激发或电离气体分子。这种激烈碰撞引起电离和复合。当电子的产生和消失过程达到平衡时, 放电能继续不断地维持下去。由非弹性碰撞产生的离子、电子及及游离基(游离态的原子、分子或原子团) 也称为等离子体, 具有很强的化学活性, 可与被刻蚀样品表面的原子起化学反应, 形成挥发性物质, 达到腐蚀样品表层的目的。同时, 由于阴极附近的电场方向垂直于阴极表面, 高能离子在一定的工作压力下, 垂直地射向样品表面, 进行物理轰击, 使得反应离子刻蚀具有很好的各向异性。所以，反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。刻蚀气体的选择对于多晶硅栅电极的刻蚀，腐蚀气体可用Cl2或SF6，要求对其下层的栅氧化膜具有高的选择比。刻蚀单晶硅的腐蚀气体可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2；刻蚀SiO2的腐蚀气体可用CHF3或CF4/H2；刻蚀Si3N4的腐蚀气体可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2；刻蚀Al（或Al-Si-Cu合金）的腐蚀气体可用Cl2、BCl3或SiCl4；刻蚀W的腐蚀气体可用SF6或CF4；刻蚀光刻胶的腐蚀气体可用氧气。对于石英材料, 可选择气体种类较多, 比如CF4、CF4+ H2、CHF3 等。我们选用CHF3 气体作为石英的腐蚀气体。其反应过程可表示为：CHF3 + e——CHF+2 + F (游离基) + 2e，SiO 2 + 4F SiF4 (气体) + O 2 (气体)。SiO 2 分解出来的氧离子在高压下与CHF+2 基团反应，生成CO ↑、CO 2↑、H2O ↑、O F↑等多种挥发性气体。对于锗材料、选用含F 的气体是十分有效的。然而, 当气体成份中含有氢时, 刻蚀将受到严重阻碍, 这是因为氢可以和氟原子结合, 形成稳定的HF, 这种双原子HF 是不参与腐蚀的。实验证明, SF6 气体对Ge 有很好的腐蚀作用。反应过程可表示为：SF6 + e——SF+5 + F (游离基) + 2e，Ge + 4F——GeF4 (挥发性气体) 。设备：典型的（平行板）RIE系统包括圆柱形真空室，晶片盘位于室的底部。晶片盘与腔室的其余部分电隔离。气体通过腔室顶部的小入口进入，并通过底部离开真空泵系统。所用气体的类型和数量取决于蚀刻工艺;例如，六氟化硫通常用于蚀刻硅。通过调节气体流速和/或调节排气孔，气体压力通常保持在几毫托和几百毫托之间的范围内。存在其他类型的RIE系统，包括电感耦合等离子体（ICP）RIE。在这种类型的系统中，利用RF供电的磁场产生等离子体。虽然蚀刻轮廓倾向于更加各向同性，但可以实现非常高的等离子体密度。平行板和电感耦合等离子体RIE的组合是可能的。在该系统中，ICP被用作高密度离子源，其增加了蚀刻速率，而单独的RF偏压被施加到衬底（硅晶片）以在衬底附近产生定向电场以实现更多的各向异性蚀刻轮廓。操作方法：通过向晶片盘片施加强RF（射频）电磁场，在系统中启动等离子体。该场通常设定为13.56兆赫兹的频率，施加在几百瓦特。振荡电场通过剥离电子来电离气体分子，从而产生等离子体。在场的每个循环中，电子在室中上下电加速，有时撞击室的上壁和晶片盘。同时，响应于RF电场，更大质量的离子移动相对较少。当电子被吸收到腔室壁中时，它们被简单地送到地面并且不会改变系统的电子状态。然而，沉积在晶片盘片上的电子由于其DC隔离而导致盘片积聚电荷。这种电荷积聚在盘片上产生大的负电压，通常约为几百伏。由于与自由电子相比较高的正离子浓度，等离子体本身产生略微正电荷。由于大的电压差，正离子倾向于朝向晶片盘漂移，在晶片盘中它们与待蚀刻的样品碰撞。离子与样品表面上的材料发生化学反应，但也可以通过转移一些动能来敲除（溅射）某些材料。由于反应离子的大部分垂直传递，反应离子蚀刻可以产生非常各向异性的蚀刻轮廓，这与湿化学蚀刻的典型各向同性轮廓形成对比。RIE系统中的蚀刻条件很大程度上取决于许多工艺参数，例如压力，气体流量和RF功率。 RIE的改进版本是深反应离子蚀刻，用于挖掘深部特征。