荧光光谱技术应用 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-10 17:05:38荧光光谱技术应用: 荧光光谱技术利用物质受光激发后发射的荧光进行定性及定量分析。该技术通过测量荧光强度、波长等参数，分析物质的组成、结构及浓度。广泛应用于生物医学、环境监测、材料科学及食品安全等领域，具有灵敏度高、选择性好及非破坏性检测等技术优势。荧光光谱技术为科研及工业应用提供了强有力的分析手段，推动了相关领域的发展与创新。

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荧光光谱技术应用资讯

热情未减，第三届“逐梦光电”国产分析仪器研制与应用研讨会圆满结束

来自全国各大知名高校及研究院的地“政、用、产、学、研”不同领域的近百位专家学者出席了本次会议。

北京卓立汉光仪器有限公司 572
2022-09-03
拉曼光谱技术应用荧光光谱技术应用
聚焦|第三届“逐梦光电”国产光电分析仪器研制与应用研讨会议程发布

第三届“逐梦光电”国产光电分析仪器研制与应用研讨会

 北京卓立汉光仪器有限公司 577
2022-08-10
拉曼及荧光光谱技术应用国产光电分析仪器光电材料
精彩纷呈，第三届“逐梦光电”国产分析仪器研制与应用研讨会成功开幕

会议以邀请学术报告为主线，其间穿插学术前沿展示和高端国产仪器展示，呈现出国产光电分析仪器的全新精神面貌。

北京卓立汉光仪器有限公司 409
2022-08-31
第三届“逐梦光电”国产分析仪器研制与应用研讨会荧光光谱技术应用
倒计时1天！聚焦第三届“逐梦光电”国产光电分析仪器研制与应用研讨会

2022.08.25-26

北京卓立汉光仪器有限公司 413
2022-08-30
国产光电分析仪器研制与应用研讨会拉曼光谱技术应用荧光光谱技术应用
网络讲座11.9 | X射线荧光光谱技术在复杂样品分析中的应用

 德国斯派克分析仪器公司 364
2023-11-03

荧光光谱技术应用文章

泰克鑫科亮相第三届光谱技术及应用大会X射线荧光光谱再获聚焦

2025年7月，备受瞩目的第三届光谱技术及应用大会在长沙隆重举行。本届大会汇聚了来自全国高校、科研院所及企业的众多光谱技术专家，围绕新一代光谱分析方法、仪器应用和产业趋势展开深入交流。

台州高视通智能科技有限公司 189
2025-07-29
便携式光谱仪手持光谱仪台式光谱仪
技术分享丨三维荧光光谱在水质分析行业的应用

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2019-12-23

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荧光光谱技术应用问答

2024-01-17 16:04:12杂交瘤技术应用、优缺点、常见问题解析: 杂交瘤技术又称细胞融合技术，是将两个或多个细胞融合成一个。融合后形成的杂交瘤细胞承袭了两亲本细胞的特征。自发的细胞融合很少发生，当加入一种融合剂，如：聚乙二醇（常用）、仙台病毒或溶血卵磷脂后，两种细胞就可发生融合。首先是质膜互相融合，形成具有两个或多个核的异核体，细胞进一步分裂时，核互相融合，形成了杂交细胞。杂交瘤技术优缺点：优点：与传统的免疫动物方法制备抗体相比，利用杂交瘤技术可以制备出高纯度的单抗，并且可以进行单克隆抗体的大量生产。缺点：a.操作步骤繁琐。b.利用杂交瘤技术生产出的单克隆抗体多为鼠源性，而鼠源性抗体在应用中有诸多问题，例如被人类免疫系统所识别，产生人抗鼠抗体( HAMA）反应、在人体循环系统中很快被清除等。杂交瘤技术应用：①诊断应用：单克隆抗体在疾病诊断中发挥了重要作用，其优点在于诊断准确且无交叉反应，例如在乙型肝炎及潜伏的乙型肝炎病毒的诊断中，单克隆抗体能显著减少假阴性的漏诊。②治-疗载体：单克隆抗体也可作为治-疗疾病的载体。通过与抗肿瘤药物结合，单克隆抗体能在体内选择性集中攻击肿瘤细胞，具有靶向性，从而减少对正常组织的损伤并减轻抗-癌药物的副作用。因此，载药单克隆抗体被誉为“生物导-弹”。③异种蛋白质问题：目前大多数单克隆抗体为鼠-鼠型，对于人体来说属于异种蛋白质，容易引起排异反应，限制了其在治-疗中的应用。④人-人型单克隆抗体的研究：为了解决排异问题，研究者正在努力研发人-人型单克隆抗体，以利于其在治-疗中的广泛应用。杂交瘤技术常见问题解析： ①电融合和PEG融合的区别？PEG化学融合是利用聚乙二醇分子能够改变细胞膜结构的特性来实现细胞融合的过程。聚乙二醇可以使两个细胞接触点质膜的脂质分子发生疏散和重组，两个细胞接触部位的质膜由于相互亲和以及彼此的表面张力作用，从而发生细胞融合。电融合则是先通过高频交流电压，使细胞成串珠状排列，实现点接触；然后施加方波脉冲，击穿两个细胞接触部位的质膜，质膜脂质分子发生重组，同时由于细胞表面张力作用，完成细胞融合。电融合法比PEG融合法有明显的优点：细胞融合率高，有利于杂交瘤的筛选；电脉冲击穿对细胞的损伤小，有利于融合后细胞的生长增殖；可直接观察融合过程；便于有目的地控制选择融合条件。 ②为什么要推荐进行2~3轮有限稀释获得稳定的杂交瘤细胞株？阳性单克隆细胞的获得通常进行至少2轮有限稀释，原因主要考虑两点。第一，有限稀释过程中，大多数是通过实验者在显微镜下观察细胞团状态来判定是否是单克隆，存在一定的主观经验值，至少进行两轮有限稀释可以增加判断的准确性；第二，杂交瘤细胞由两个细胞融合而成，存在基因的不稳定性，连续2轮有限稀释，客观上增加了筛选中细胞培养时间，有利于淘汰不稳定的杂交瘤细胞株。 ③为什么要使用核酸免疫？重组蛋白由于免疫靶向明确、剂量可控等优势，通常作为动物免疫阶段的首-选免疫原。但有些重组蛋白因为表达纯化困难，很难大量获得并用于动物免疫；另外，重组蛋白与天然样本之间存在或多少的结构差异。而核酸免疫，跳过了蛋白表达纯化的过程，成功避开了蛋白生产的难题，通过核酸体内表达的蛋白结构也更加接近天然蛋白，故而可以作为重组蛋白免疫的有效补充手段。但核酸免疫的免疫剂量很难判断，整体免疫效价也会普遍低于蛋白和多肽免疫。 ④除弗氏佐剂之外，免疫佐剂还有哪些？免疫佐剂是指那些同抗原一起或预先注入机体内能增强机体对抗原的免疫应答能力或改变免疫应答类型的辅助物质。佐剂的免疫生物学作用是增强免疫原性、增强抗体的滴度、改变抗体产生的类型、引起或增强迟发超敏反应等。除经典的弗氏佐剂外，各类不同功能的佐剂也层出不穷，比较常见的有：1）无机佐剂，如磷酸铝佐剂、氢氧化铝佐剂；2）生物类佐剂，如以细菌胞壁或产物为主要组成的佐剂；3）具有佐剂活性的细胞因子类，如GSF、IL1、IL2、IFN -γ等；4）人工合成佐剂，如cpG等。 ⑤杂交瘤融合后主克隆接种96孔细胞培养板数量通常是多少？融合后的主克隆细胞接种96孔细胞培养板的数量与融合效率和脾细胞多少有密切关系。PEG化学融合后的主克隆，通常一只小鼠的脾细胞可以接种8-15块96孔细胞培养板；电融合因为融合效率大大提高，通常一只小鼠的脾细胞可以接种30~50块96孔细胞培养板。更多杂交瘤技术开发平台详情可以关注：https://cn.sinobiological.com/services/platform/hybridoma-development 义翘神州：蛋白与抗体的专业引领者，欢迎通过百度搜索“义翘神州”与我们取得联系。

2023-06-25 10:22:01线上讲座 | 交流阻抗技术新发展新应用: 扫描上方二维码免费看直播！了解交流阻抗技术新发展新应用错过直播欢迎莅临国际阻抗谱大会展台交流！www.eis2023.cn由北京化工大学与清华大学联合承办的“第12届国际电化学阻抗谱会议”（EIS 2023）将于2023年7月2-7日在北京举行。在EIS 2023，普林斯顿输力强将携带阻抗研究利器Enerylab与您见面，同时在7月6日14:30-14:45口头报告题为"Towards Ultra-high Resolution and Localized EIS for Advanced Energy Research" 。普林斯顿输力强期待您的莅临！

2022-08-11 07:24:34红外热成像技术应用: 红外热成像技术是一项应用广阔的高新技术，它集光电成像技术、计算机技术、图像处理技术于一身，能够准确、实时、快速地展现物体表面的温度分布情况。因此，对于锂电池的研发、生产、储存、回收，红外热像仪具有先天优势。研发优化-动力电池研究：动力电池装置由于设计及功能要求不同，从而使得各部位散热并不均衡，利用红外热像仪的实时成像功能，能够精准展现热能变化。将红外热成像技术和实时动态热像分析系统、热场和流场分析技术、热传导系数分析技术、快速精确的量热测试技术应用于电池热管理和热安全性能的评价之中。实际应用案例：美国可再生能源研究所在混合动力电动车的电池热平衡方面，通过红外热像仪记录电池表面温度，并通过在电池内部布置热电偶测量，开展了温度场分布特征研究。日本 Toyota公司通过热成像技术开展了电池模块内的冷却气流参数和矢量的研究及热评估，改进了电池模块设计中的一些重要参数，制定了热管理方案，有效减小了电池模块不同部位的温度差异。

2023-02-17 12:55:08FluorCam叶绿素荧光成像技术及其应用研讨会: FluorCam叶绿素荧光成像技术及其应用研讨会 —— 会议时间 ——2020年7月7日（周二） 14:30 – 15:30—— 会议主题 ——FluorCam叶绿素荧光成像技术及其应用叶绿素荧光成像最新研究技术介绍、国际知名的 FluorCam产品功能介绍及安装应用案例等—— 主讲人 ——李川北京易科泰公司EcoTech实验室高级工程师研究领域：植物/藻类光合作用机理、植物逆境胁迫、植物生理生态、作物育种等—— 参会方式 ——腾讯会议;微信群内发会议链接（请扫码报名参会）

2022-11-02 23:50:36兆声清洗技术原理、优势及应用: 1 兆声清洗技术背景Schwartzman等人，1993在SC1、SC2清洗时使用了兆频超声技术，获得前所未有的清洗效果，使得该方法在清洗工艺中被广泛采用，也引发了对超声波增强清洗效果的规律与机理的研究。1995年Busnaina的研究表明，兆频超声波去除粒子的能力与溶液的组成、粒子的大小、超声波的功率及处理时间有关。1997年Olim发现兆频超声去除粒子的效率与粒子直径的立方成正比，并由此推断兆频超声无法去除0.1μm以下的粒子。但是，兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上＜0.2μm的粒子，起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。但是，随着频率升高，声传播的效率会降低，所以兆声波清洗技术效果并不是频率越高越好。目前，一般用的频率范围是（700～1000）kHz。2 兆声波清洗原理简介声能在液体内传播时，液体会沿声传播的方向运动，形成声学流（Acousticstreaming），声学流是由声波生产的力和液体的声学阻力以及其他的气泡阻力形成的液体的流动的效果，兆声波清洗就是利用声能产生的液体流动来去除硅片表面的污染物，其原理见图1。兆声波清洗是由高频（700～1000kHz）的波长短（1.5μm左右）的高能声波推动溶液做加速运动，使溶液以加速的流体形式连续冲击硅片表面，使硅片表面的颗粒等污染物离开硅片进入溶液中，达到去除污染物的目的。随着声能的增高，表面张力会下降，这可改善浸润效果及小颗粒的浸润。而且，能量越高，声学流的速度越快，硅片表面被带走的颗粒也随之增多反应速率也会升高，这可降低反应时间，同时，也可以降低化学液的浓度。随着频率升高，空洞现象的阀值会升高，所以兆声不会像超声一样会产生气泡而损伤硅片表面。而根据超声频率的高低对应的去除污染物颗粒大小的能力，选用的频率见表1。3 兆声波清洗技术的特点（1）美国VEＲTEQ公司的M.Olesen.Y.Fan等人研究发现，兆声技术有如下特点。能大大降低边界层的厚度，使其具有清除深亚微米颗粒的能力，可满足现行工艺以及0.1μm（线宽）技术对清洗工艺的需求。有兆声时边界厚度的对比（见图2）。（2）可以极大的提高清洗效率，从图3有无兆声时的清洗效率对比图中可以看到，当兆声关闭时，用30s的时间清洗效率只能达到20%，有兆声时，只需10s的时间清洗效率就可达到99.99%。（3）由于兆声波清洗可以使用稀释倍数大的化学液，从而大大减少了化学药品的用量和消耗，降低了清洗工序的工艺成本，有效减少了化学液的污染，保护环境。图3是在极低浓度的化学液中有无兆声的清洗效果对比图。由于兆声波清洗具备以上诸多优点，因此使得兆声波清洗很快成为硅片清洗行业中广泛应用于去除微细颗粒的重要手段。4 兆声波清洗技术在清洗设备中的应用结合常规的湿法清洗工艺开发出适合相关工艺阶段的兆声清洗设备，按照这些设备的不同结构，大体可分为两类，一类是融汇在湿法清洗机兆声清洗槽或兆声漂洗槽，它们作为设备的一部分，只完成单个的清洗或漂洗过程。另一类则是以独立的设备形式出现。这就是兆声清洗机，该种设备通常配备两个槽体，一个清洗槽和一个冲洗槽，清洗槽是在兆声环境下用化学液来去除硅片表面的微细颗粒及化学污染物等，冲洗槽则是对清洗完的硅片用去离子水进行冲洗，从而达到生产需要的洁净度。但是由于兆声传播是一种介质传播，声音传播中的能量会转化成介质的动能，因此在使用兆声清洗的同时会产生兆声能量的衰减。导致能量衰减的因素，首先是兆波的反射，如图4所示。兆声能量的衰减可通过以下公式计算：衰减系数γ可表示为：γ=γ吸收+γ分散；γ分散在液体中，不在计算内。在水液体中，γ吸收系数（dB/m）=0.2F2（MHz）。由此计算可得，在频率为950kHz时，衰减度约为0.002dB/m；在频率为40kHz时，衰减度约为0.000003dB/m，在水液体中，兆声波衰减约为低频超声波衰减的1000倍，如图5所示。因此，在兆声清洗中，液位不能超过500mm。而在低频超声波中，超声波能量可传至（1.5～2）m高。安装时，石英缸底部有一定倾斜角度更利于高频兆声波的传播，由图7中角度与声压的关系可知，当θ=2°时，最有利于兆声波的传播。由于声波传播时一种介质传播，因此在不同的频率下石英缸作为传递介质，它的厚度也对兆声的传播有一定影响。通过下面公式可以计算出不同介质中声波的传播率D：从图8可见，当厚度t=3mm时，兆声波在石英中具备更好的传播率。兆声发生器在石英循环溢流槽中的安装原理见图9。5 兆声清洗技术应用领域由于兆声波能去除硅片表面的微小颗粒，并且不会对硅片表面造成损伤，近几年兆声波清洗被大量的应用在清洗工艺中。兆声波用在SC－1中，可提高去除颗粒尤其是小颗粒的效果；用在DHF，臭氧水、纯水中都能起到增强清洗效果的作用。目前兆声清洗技术被广泛应用于液晶、手机镜片、光学器件照相机镜头制造业，汽车、摩托车制造业，电子、微电子、电子电器元器件制造业，五金业、机械的零件业，航天、航空清洗精密零部件业，钟表、眼境、珠宝制造业，家电产品制造业，电镀业，铁路机车造业等各个行业。（转）具体应用涉及：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺