- 2025-01-10 10:49:53光刻涂胶工艺HMDS烘箱
- 光刻涂胶工艺HMDS烘箱是半导体制造中的关键设备。它主要用于在光刻涂胶工艺后，对硅片表面的HMDS（六甲基二硅氮烷）涂层进行烘干处理。该烘箱采用先进的加热和控制系统，能够精确控制温度和时间，确保HMDS涂层均匀烘干，提高光刻胶的附着力和工艺稳定性。光刻涂胶工艺HMDS烘箱具有结构紧凑、操作简便、运行稳定等特点，是半导体生产线中不可或缺的重要工具。
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