2025-01-21 09:33:05无接触供餐
无接触供餐是指在餐饮服务中,通过减少人与人之间的直接接触来保障公共卫生安全的一种供餐方式。它通常涉及在线点餐、无接触配送、自助取餐等环节,避免了服务员与顾客之间的面对面交流。这种方式在疫情期间尤为重要,能有效降低病毒传播的风险。同时,它也提高了供餐效率,为顾客提供了更加便捷、安全的用餐体验。

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2023-06-26 14:52:50无损无接触定量评价!GaN晶体质量评估新思路——ODPL法!
随着疫情三年的结束,大家又开始马不停蹄出差、旅游、返乡,生活的压力让人喘不过气。更别提出行的时候,还需要背一个很沉的电脑,以及与它适配的、同样很沉的、形状不规律的、看着就很糟心的电源适配器!有没有一种东西,能够让大家的出行变得更加轻松(物理上)?那必须是现在越来越流行的氮化镓(GaN)充电器了!一个氮化镓充电器几乎可以满足所有出行充电的需求,并且占地空间小,简直是出行神器!图1 氮化镓(GaN)充电器氮化镓是一种无机物,化学式GaN,是氮和镓的化合物,一种直接能隙(direct bandgap)的半导体材料。GaN材料具有宽禁带、高临界电场强度和高电子饱和速度等特点,其器件耐高温、耐高压、高频和低损耗,大大提升电力器件集成度,简化了电路设计和散热支持,具有重要的价值和广泛的应用,是现在最 火热的第三代半导体材料,没有之一。GaN的应用不止在流行的充电器上,早在2014年日本科学家天野浩就凭借基于GaN材料的蓝光LED获得了诺贝尔奖。不过GaN就没有缺点了吗?或者说GaN没有改善的地方了吗?并不是, GaN技术的难点在于晶圆制备工艺。由于制备GaN的单晶材料无法从自然界中直接获取,所以GaN的主要制备方法是在蓝宝石、碳化硅、硅等异质衬底上进行外延。而现在由异质外延生长的GaN普遍存在大量缺陷的问题。缺陷的存在势必会影响到晶体的质量,从而影响到材料和器件的电学性能,最 终影响到未来半导体科技的快速发展。因此,降低GaN晶体里面的缺陷量,提高晶体质量,是当前第三代半导体领域研究很重要的一个课题。GaN晶体质量/缺陷评估的方法GaN晶体里面的杂质、缺陷是非常错综复杂的,无法单纯通过某一项缺陷浓度或者杂质含量来定量描述GaN晶体是否是高质量,因此现在评价GaN晶体质量的手段比较有限。根据现有的报道,大致有以下几种:多光子激发光致发光法(Multiphoton-excitation photoluminescence method,简称MPPL)、蚀坑观察法(Etch pit method)以及二次离子质谱(Secondary-ion mass spectrometry,简称SIMS)。MPPL法多光子激发光致发光法采用长波长激发,远大于带边荧光波长。激发过程需要同时吸收二个或者多个光子。通过吸收多个脉冲光子,在导带和价带形成电子空穴对,随后非辐射驰豫到导带底和价带顶,最 后产生带边发光和缺陷发光。通过滤波片获得带边和缺陷发光光谱和光强,改变入射光斑的位置,从而得到样品的荧光信号三维分布,即三维成像。多光子荧光三维成像技术可以识别和区分不同类型的位错,但是无法定量评估GaN的晶体质量,而且多光子激发的系统造价高。图2 (a) Optical microscope image of etch pits. (b) 42 × 42 μm2 2D MPPL image taken at a depth of 22 μm. (c) 42 × 42 × 42 μm3 3D MPPL image, shown with contrast inverted参考文献:Identification of Burgers vectors of threading dislocations in free-standing GaN substrates via multiphoton-excitation photoluminescence mapping' by Mayuko Tsukakoshi et al; Applied Physics Express, Volume 14, Number 5 (2021)蚀坑观察法蚀坑观察法通过适当的侵蚀可以看到位错的表面露头,产生比较深的腐蚀坑,借助显微镜可以观察晶体中的位错多少及其分布。该方法只适合于位错密度低的晶体,如果位错密度高,蚀坑互相重叠,就很难将它们区分。并且该方法是对晶体有损伤的,做不到无损无接触。图3 蚀坑观察法SIMS技术SIMS是利用质谱法分辨一次离子入射到测试样品表面溅射生成的二次离子而得到材料表面元素含量及分布的一种方法。SIMS可以进行包括氢在内的全元素分析,并分辨出同位素、化合物组分和部分分子结构的信息。二次离子质谱仪具有ppm量级的灵敏度,最 高甚至达到ppb的量级,还具有进行微区成分成像和深度剖析的功能。但是SIMS对晶体有损伤,无法做到无损。图4 SIMS技术以上三种技术均是评估GaN晶体缺陷的方法,但是每一种都有其缺憾的地方,它们无法做到定量的去评价GaN晶体的质量,而且具有破坏性。为了更好地定量评估GaN晶体质量,滨松公司和日本Tohoku University的Kazunobu Kojima教授以及Shigefusa Chichibu教授从2016年开始合作研发了一套基于积分球的全向光致发光系统(Omnidirectional Photoluminescence,以下简称ODPL),该系统是第 一个无损无接触定量去评价GaN晶体质量的方法/系统。ODPL系统ODPL系统是首 个无接触无损评价半导体材料晶体质量的方法,通过积分球法测量半导体材料、钙钛矿材料的内量子效率。该产品可以直接测量材料 IQE,具有制冷型背照式 CCD 高灵敏度以及高信噪比。图5 ODPL测量方法示意图传统光致发光的量子效率测量指的是晶体的PLQY,即光致发光量子效率,其定义为:PLQY = 样品发射的光子数/样品吸收的光子数图6 GaN样品在积分球下的发射光谱PLQY是表征晶体发光效率最 常见的参数之一,对于绝大多数的发光材料,PLQY都是黄金标准。但是对于GaN晶体,PLQY的表征显得不足。上图可见,GaN的光致发射光谱呈双峰形状,这是由于GaN晶体中的缺陷等,会将GaN本身发射的PL再次吸收然后发射(光子回收Photon Recycling现象)。图7 ( a ) PL and ODPL spectra of the HVPE / AT - GaN crystal and ( b ) detectable light - travelling passes considered in the simulation of light extraction :(1) direct escaping from the surface :( ii ) scattered at the bottom and escaping from the surface : and ( ii ) direct eseaping from the edge .( c ) Refractive index and absorption spectra of HVPE / AT - GaN .因为存在Photon Recycling的现象,GaN的PLQY不足以表征其发光转化效率,而真正可以表征GaN晶体发光转化效率的定义是其真正的内量子效率:IQE = 样品产生的光子数/样品吸收的光子数图8  GaN样品的标准发射光谱IQE是GaN晶体的PLQY考虑LEE和光子回收现象以后的参数,更能直观、定量反映GaN晶体的质量。图9  高IQE和低IQE晶体的对比高IQE的GaN晶体通常表现为:高载流子浓度、低穿透位错密度、低杂质浓度、低点缺陷浓度、高激发功率密度。图10 不同穿透位错密度晶体的IQE结果对比免费样机预约ODPL现在ODPL样机开放免费预约试 用活动,有意向的客户请在评论区留言“样机试 用”小编看到之后会第 一时间与您联系,样机数量有限,先到先得哟~图11 ODPL样机展示以上有关新品的信息已经全部介绍完毕了,如有任何疑问,欢迎在评论区留言哟。
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2025-06-24 15:00:21非接触陀螺减压器怎么调
非接触陀螺减压器是一种高精度的机械设备,广泛应用于各种需要精确调节压力的领域,如航空航天、精密制造以及自动化设备等。正确的调整非接触陀螺减压器对于保证设备的稳定性和提高系统的效率至关重要。本文将详细介绍如何调节非接触陀螺减压器,从而确保其在不同应用场景中的佳表现。 1. 非接触陀螺减压器的基本构造 非接触陀螺减压器是一种依靠陀螺效应来减少摩擦和压力波动的设备。它通常由多个关键组件构成,包括陀螺转子、减压腔、传感器及调节阀等。其核心特点是利用非接触技术,确保减压过程中的零摩擦运行,从而大幅提高了系统的稳定性和响应速度。 2. 调节非接触陀螺减压器的步骤 调节非接触陀螺减压器需要根据实际的工作需求来精细调整。下面是一般的调节流程: 2.1 确认工作压力范围 了解系统所需的工作压力范围。通过查看设备手册或根据设备需求设定一个理想的压力范围。在调节过程中,应确保所选压力值不会超过设备的承受极限。 2.2 检查减压器的初始设定 对减压器进行检查,确保其初始设定没有异常。检查各个连接件是否紧固、减压腔内部是否清洁、传感器是否正常工作。如果有损坏或污染的部件,应及时更换或清洁。 2.3 调整阀门和传感器 根据需要调节减压器中的阀门和传感器。通过调节阀门的开关程度来控制气流的大小,从而调节系统的压力。在调节过程中,可以使用外部压力计或内部传感器进行实时监测,确保压力调节在预定范围内。 2.4 进行精细调整 完成大致的调节后,进行精细调整。这一步通常需要微调设备的反馈系统,确保压力保持稳定且符合设计要求。非接触陀螺减压器能够提供极高的响应精度,但需要在此阶段避免过度调整,避免出现设备不稳定的现象。 2.5 测试并验证效果 完成调节后,进行系统测试,确保非接触陀螺减压器能够在实际工作条件下稳定运行。通过反复测试和调整,验证减压器是否在整个工作范围内都能够保持准确的减压效果。 3. 调节时的注意事项 在调节非接触陀螺减压器时,必须注意以下几个方面: 设备的清洁度:确保设备无污染物,避免任何杂质影响减压效果。 压力波动监控:调节时要随时监控压力变化,避免突然的波动对系统造成损害。 适应性测试:调整完毕后,进行不同负载条件下的适应性测试,确保设备在多种工作环境下都能稳定运行。 定期维护:为了确保长时间的稳定性,非接触陀螺减压器需要定期维护和校准。 4. 总结 非接触陀螺减压器的调节是一个细致且精密的过程,需要根据实际使用需求进行全面、科学的调整。通过正确的调节步骤和严格的测试,可以确保减压器在各种工作条件下都能够保持高效、稳定的运行。对于专业的用户来说,精确调整和维护非接触陀螺减压器是确保设备长时间运行可靠性的关键。
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2023-08-18 09:56:28作为医疗器械采购人员,接触镜类产品萃取性能研究中测试样品如何选择?
接触镜类产品萃取性能研究应选择成品片进行萃取试验。样品需具有典型性,如增强着色的镜片可从染料种类、配方总量等方面去考虑。考虑到最不利因素,一般选用染料配方总量最大,并涵盖所有染料种类的镜片。如染料配方总量最大的镜片无法涵盖所有染料种类,还需补充能够涵盖其他染料种类的镜片,并分别进行萃取试验验证。
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2022-11-08 10:08:09非接触式透镜厚度测量利器光纤微裂纹检测仪(OLI)
在光学领域,透镜是光学系统中最重要的组成元件,现代的光学仪器对透镜的成像质量和光程控制有很高的要求。尤其在透镜的制造要求上,加工出的透镜尺寸,其公差必须控制在允许范围内,因此需要在生产线上形成对透镜厚度实时、自动、精准的检测,这对提高产线的生产效率和控制产品的质量具有重要意义。目前,测量透镜中心厚度的方法主要分为接触式测量和非接触式测量。接触式测量有很多弊端,如不能准确找到透镜的中心点(最高点或最低点),测量时需要来回移动透镜,效率不高,容易划伤透镜的玻璃表面。而非接触测量一般采用光学的方法,能有效避免这些测量缺陷,由东隆科技自研的光纤微裂纹检测仪(OLI)不仅可以快速精准测试出透镜的厚度,而且也不会对透镜表面造成划伤。下面,让我们学习下光纤微裂纹检测仪(OLI)是如何高效的测量手机镜头的折射率和厚度。光纤微裂纹检测仪(OLI)1、 OLI测量透镜厚度使用光纤微裂纹检测仪(OLI)测量凸透镜中心厚度,如图1.所示,准备一根匹配好测试长度的光纤跳线,一端接入设备DUT口,另外一端垂直对准透镜,让接头和透镜之间预留一定距离,同时使用OLI进行测量。图1. 测量系统示意图测量结果如图2.所示,图中共有3个峰值,第1个峰值为FC/APC接头端面的反射,第2个峰值为空气到透镜第一个面的反射,第3个峰值为透镜第二个面到空气的反射。图2.凸透镜厚度测试结果图峰值1和2之间的距离为3.876mm,峰值2和3之间的距离为20.52mm,图2中测得各峰值间距是在设备默认折射率n1=1.467下测得,而空气的折射率n2=1玻璃透镜的折射率n3=1.6,所以空气段的实际长度为:L空=3.876*n1/n2=5.686mm,透镜的实际厚度为L镜=20.52*n1/n3=18.814mm。使用游标卡尺测量凸透镜的厚度为19.02mm,和测试结果偏差0.2mm,可能是玻璃透镜的实际折射率与计算所用到的折射率1.6有偏差导致的。2、OLI测量镜底折射率和厚度将图1.测量系统中的凸透镜换成手机摄像头的玻璃镜底,使用光纤微裂纹检测仪(OLI)对3种不同厚度的玻璃镜底进行测量,图3.为测试玻璃镜底实物图,用游标卡尺测量三种玻璃镜底的厚度分别为0.7mm、1.5mm和2.0mm。图3.玻璃镜底实物图光纤微裂纹检测仪(OLI)测量结果如图4.所示,为5次测量平均后的结果,从图中可以看出三种镜底的测试厚度分别为1.075mm、2.301mm、3.076mm。图4.三种镜底厚度测试结果图三种玻璃镜底的材质一样其折射率一致,图4.中设备测得玻璃镜底厚度与游标卡尺测得厚度不一致,因为是在设备默认折射率n1=1.467下测得、实际玻璃镜底折射率为n镜=1.075*1.467/0.7=2.253,将设备折射率修改为2.253直接得出三款玻璃镜底的厚度为:0.699mm 、1.498mm、2.003mm,设备测得结果与游标卡尺测量偏差不超过5um,证明OLI非接触测试透镜厚度十分精准。3、结论使用光纤微裂纹检测仪(OLI)非接触测试各种透镜的折射率和厚度,其测量精度在亚微米级别,相对于接触式测量透镜厚度,精度提升很大,同时也避免测量时透镜表面被划伤。将光纤微裂纹检测仪(OLI)非接触式测量透镜厚度的方法应用到生产车间内,可形成自动化检测产线,无需人为干预即可准确甄别出质量不合格产品,极大提升生产效率。
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2021-11-29 11:06:02Tip 10000ul吸嘴无DNA酶无RNA酶无热源吸头
Tip 10000ul吸嘴无DNA酶无RNA酶无热源吸头,大口本生(天津)健康科技有限公司:http://www.bunsen17.com/ 本生生物供应:光度计,检测仪,免疫仪,全系荧光定量PCR耗材,移液器,钻石吸嘴,离心管,冻存管,培养皿,培养板,培养瓶,吸头,仪器及手套,色谱耗材,针头过滤器。产品名称:Tip 10000ul吸嘴,无色,无DNA酶无RNA酶无热源,袋装非灭菌,大口产品规格:100支/包,10包/箱(1000支/箱)CG编号    产品描述    包装规格通用型移液器吸嘴,BASIX加长吸嘴23-2033    Tip 10000ul吸嘴,无色,无DNA酶无RNA酶无热源,袋装非灭菌,大口    100支/包,10包/箱(1000支/箱)Tip 10000ul吸嘴无DNA酶无RNA酶无热源吸头适应客户:医院检验科PCR实验室,实验室;第三方检测机构,科研院所,大专院校,制药厂,试剂生产厂家,疾控,检验检疫。
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