贝士德 全自动化学吸附仪BSD-Chem C200应用领域

贝士德 BSD-Chem C200 全自动化学吸附仪专为材料表征、催化剂评估、环境与能源材料开发而设计，集成化气路、温控、质量检测与数据分析于一身。设备可在室温到高温区间内开展化学吸附过程的定量研究，获得吸附量、速率和等温线等关键指标，适用于实验室研究、工业放大前的工艺优化，以及材料筛选与品质控制场景。

核心参数与规格

• 测量模式：等温吸附、动态吸附速率、反应热分析，可联合拟合 Langmuir、 Freundlich 等模型。
• 温度范围：室温至 550°C，温控波动＜±1.5°C。
• 压力范围：0.01–1.2 MPa（约0.1–12 bar），多通道独立气路可并行运行。
• 样品托盘：6 位标准配置，支持多样品形态（颗粒、薄膜、涂层样品片）。
• 灵敏度与分辨率：质量灵敏度 ≤0.5 μg，数据采集分辨率1 s，采集速率可调整。
• 气路与气体兼容性：氮、氩、氢及多种腐蚀性气体兼容，配有高效气路净化与泄漏检测。
• 软件与数据处理：BSD-Chem Control Pro 4.0，原始数据导出 CSV/Excel，内置拟合与报告模板。
• 安全与维护：自动泄压、过压保护、气路自诊断，常规清洗与耗材更换提醒。
• 电源与环境：100–240 VAC，50/60 Hz；工作环境温度15–30°C，相对湿度不超过70%。
• 外形与重量：机身尺寸约700×580×650 mm，重量约90 kg，前端接口友好，便于日常维护。

配置与型号对比

• 标准版 BSD-Chem C200

  
  

• 包含：主机、气路模块、温控单元、6位样品托盘、标准软件授权、基础用户手册、常用耗材包。

  
  

• 关键性能：6路并行气路、室温至550°C控温、0.01–1.2 MPa压力范围、等温/速率/热分析三模态。

  
  

• 适用场景：常规材料表征、催化剂初筛、基础吸附数据收集。

  
  

• 增强版 BSD-Chem C200 Pro

  
  

• 增强点：双气路入口、8位样品托盘、升级版高精度传感与热控、扩展数据分析插件、云端数据同步与协作功能。

  
  

• 关键参数：更低探测下限、并行通道数提升、温控波动更小、远程诊断与固件自动更新。

  
  

• 适用场景：高通量筛选、需要更高温度与更大样品容量的研究、工业放大前的严苛工艺优化。

  
  

应用领域

• 材料科学与纳米材料表征，了解材料对特定化学气体的吸附容量与速率。
• 催化剂筛选与活性位点研究，评估催化体系对反应物的化学吸附行为。
• 环境治理材料开发，如吸附式净化材料、气体分离膜的化学吸附特性评估。
• 能源存储材料研究，对气体储存、释放动力学及热效应进行定量分析。
• 薄膜与涂层研究，评估薄层材料在不同条件下的吸附响应与稳定性。

场景化FAQ

• BSD-Chem C200 能否处理腐蚀性气体？ 能。设备设计了耐腐蚀气路与材料接口，配有气路净化与泄漏监测，具体腐蚀性气体需咨询技术人员确认兼容性和材料等级。

  
  

• 如何设置温度和压力的测量条件？ 通过软件向导设定目标温度点、等温区间与压力步进，系统自动执行烘干、平衡、记录，并提供实时曲线。

  
  

• 数据导出与分析支持哪些格式？ 支持 CSV、Excel，以及内置拟合模板，便于直接生成等温线、吸附速率曲线与热效应曲线的分析结果。

  
  

• 样品吞吐量与维护周期大概是多少？ 标准版6位托盘在常规测试条件下每轮测试约10–30分钟，维护包括气路滤芯与密封件的定期检查，厂商建议的维护周期一般在3–6个月，视使用强度而定。

  
  

• 与现有实验平台的对接难度如何？ 软件开放 API，支持与实验室 LIMS/数据平台对接，提供数据标准化接口与导入模板。

  
  

• 安全与合规方面有哪些保障？ 具备过压保护、气路泄漏监测、气体使用记录和维护日志，符合常见实验室安全规范。

  
  

• 可以扩展到更高温或更大样品容量吗？ 通过选配的扩展模块（如高温腔、扩展托盘）可以提升温控范围和样品位数量，具体扩展需结合应用目标与预算评估。