二、产品概述与定位
日本DAIKI推出的土壤团粒分析仪DIK-2001,面向实验室研究、教育科研及工业现场质控等场景。通过湿法团粒分级结合高分辨率数字图像分析,能够快速得到土壤团粒分布、平均团粒直径、团粒比例及稳定性相关指标,帮助用户从结构层面评估土壤耕作性与改良效果。设备设计注重操作简便、数据可追溯,并可与实验室信息管理系统对接,实现数据的一体化管理与报告生成。
二、型号与核心规格
- 机型与定位
- 型号:DIK-2001
- 应用领域:科研、学术、生产现场的土壤团粒分析、质量控制与环境监测
- 测量原理与处理
- 测量原理:湿法团粒分析结合数字图像处理,按预设分级网对团粒直径进行统计并输出分布曲线
- 数据处理:内置图像分析算法,自动提取团粒轮廓、边界和体积分布,生成统计参数
- 样品与容量
- 样品容量:干土50–500 g,湿法处理时可处理更大批量,按配置可扩展
- 粒径范围与分辨率
- 粒径分布范围:0.25–25 mm
- 数据分辨率:图像分辨率可达高于等效分辨率的数十微米级别视场
- 显示与操作
- 显示屏:7英寸触控屏,分辨率稳定,支持中文/英文界面
- 操作性:直观菜单、快速分析模式、可定制分析模板
- 软件与数据输出
- 软件版本:DIK-2001 软件S1.x
- 数据输出:CSV、XLSX、PDF格式报告,图像导出JPEG/PNG
- 导出接口:USB、LAN、Wi-Fi,便于与LIMS对接
- 环境与电源
- 电源要求:AC 100–240 V,50/60 Hz
- 功耗:典型工作约120 W,待机低功耗
- 环境条件:工作温度15–30°C,湿度30–80%RH
- 外形与重量
- 外形尺寸(初级机):约460 × 420 × 450 mm
- 重量:约25–30 kg
- 认证与标准
- 认证:CE、RoHS 等常规符合性认证
- 配件与选项
- 标配:筛网组(常用孔径组合)、样品托盘、清洗工具、套件连接件
- 可选项:自动化样品取样单元、LIMS接口模块、扩展筛网套件、二次分拌/混匀模块
三、核心技术特点
- 湿法与干法兼容性
- DIK-2001 支持湿法团粒分离与干法初筛的协同分析,适应不同土壤类型与改良试验的需求
- 高分辨率图像分析
- 内置光源与镜头组合,能够在不同土样颜色与含水率下保持稳定的边界提取和轮廓识别
- 自动化数据处理
- 自主算法实现快速分布拟合、统计量计算及误差评估,确保重复性与可追溯性
- 可扩展的数据管理
- 与实验室信息管理系统无缝对接,支持批量数据导入导出,便于形成完整的实验报告
- 用户友好性
- 直观的界面、可定制模板和报告格式,降低培训成本,提高日常分析效率
- 设备稳定性与维护
- 坚固机身结构,配备自检与自校准工具,提供常规维护指引,减少停机时间
四、应用场景与场景化使用要点
- 科研与教学
- 用于土壤结构与团粒稳定性研究,辅助土壤改良和耕作性评估
- 农业与作物生产
- 在土壤育性诊断、作物轮作与水分管理中,通过团粒分布评估水保能力与肥力衰减趋势
- 环境与土壤修复
- 对受污染或改良后的土壤进行团粒稳定性监测,评估修复效果
- 工业质控
- 在土工材料、混合料或土壤改良剂生产中进行一致性与配方稳定性验证
五、典型参数表(DIK-2001 常规配置与可选项)
- 测量模式:湿法团粒分析、图像分级分析
- 粒径范围:0.25–25 mm
- 样品容量:50–500 g(可选扩展)
- 显示与界面:7"触控屏,中文/英文
- 数据输出:CSV、XLSX、PDF,图像JPG/PNG
- 通讯接口:USB、LAN、Wi-Fi
- 电源与耗电:100–240 V,50/60 Hz,约120 W
- 外形与重量:460 × 420 × 450 mm,约25–30 kg
- 环境条件:15–30°C,30–80%RH
- 认证:CE、RoHS
- 标配与选件:筛网组、托盘、清洗工具;自动化单元、扩展筛网、LIMS接口
六、场景化FAQ
- DIK-2001 适用于哪些土壤类型的团粒分析?
- 适用范围广,包含砂土、壤土、黏壤土及含有腐殖质的土样;湿法处理对高粘性土样的分级稳定性更明显,易于获得可重复的团粒分布数据。
- 如何开始一次分析的样品准备步骤?
- 取少量代表性干土,去除大颗粒碎屑,按设备指南进行湿润/分散处理,确保样品在分析时粒径分布的代表性;随后将样品置入分析单元,启动分析模板即可。
- 输出报告包含哪些关键指标?
- 团粒直径分布、平均团粒直径、团粒比例、稳定性指数、相关统计量及分布曲线,报告可导出为PDF/CSV并直接提交给相关部门。
- 数据如何与LIMS对接?
- 通过LAN/Wi-Fi接口导出CSV/XLSX格式数据,或使用专用接口模块实现自动化上传,支持批量导入和元数据绑定。
- 常见故障及维护要点?
- 常见问题包括图像边界丢失、筛网堵塞、显示异常等;日常维护建议包括定期清洁光学部件、检查筛网状态、执行自检与自校准流程,确保稳定性和重复性。
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