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高谱成像 显微高光谱成像仪 HY-5010-U参数

来源:杭州高谱成像技术有限公司 更新时间:2026-04-01 16:30:03 阅读量:38
导读:高谱成像旗下HY-5010-U显微高光谱成像仪,是针对显微尺度微区光谱-空间信息同步获取设计的科研级设备,可实现传统显微成像与光谱分析的深度融合,覆盖实验室、材料科研、工业检测等多场景的微区表征需求。本文聚焦其核心参数与技术特点,为行业从业者提供精准参考。

高谱成像旗下HY-5010-U显微高光谱成像仪,是针对显微尺度微区光谱-空间信息同步获取设计的科研级设备,可实现传统显微成像与光谱分析的深度融合,覆盖实验室、材料科研、工业检测等多场景的微区表征需求。本文聚焦其核心参数与技术特点,为行业从业者提供精准参考。

一、HY-5010-U核心技术特点

  • 宽波段覆盖:兼顾可见光(380-780nm)与近红外(780-1000nm),适配大多数有机/无机材料的特征光谱吸收峰(如叶绿素、半导体带隙、聚合物官能团);
  • 高空间分辨率:搭配100×油浸物镜(NA=0.9)时,空间分辨率可达1μm,满足半导体晶圆、细胞亚结构等微区分析需求;
  • 快速推扫成像:线扫描速度≤10ms/像素,1000×1000像素区域单帧采集≤5s,大幅提升复杂样品的实验效率;
  • 全流程校正:内置自动暗电流、平场校正算法,消除探测器噪声与光学系统畸变,保证光谱数据的绝对准确性;
  • 多物镜兼容:支持4×/10×/20×/50×/100×(油浸)物镜切换,适配不同尺度样品(从宏观组织到亚微米颗粒)的观察与分析。

二、HY-5010-U关键技术参数(列表)

类别 参数项 具体指标
光谱性能 光谱范围 380~1000nm(可见光-近红外)
光谱分辨率 ≤2.5nm(@546.1nm Hg灯标定)
光谱采样间隔 0.5nm(可编程调整至1nm)
空间性能 空间分辨率 ≤1μm(100×油浸物镜)
最大视场范围 1000μm×1000μm(依物镜倍数线性缩放)
探测器像素尺寸 16μm×16μm(制冷型CCD)
扫描性能 扫描方式 推扫式(线扫描)
单帧扫描时间 ≤5s(1000×1000像素区域)
三维平台精度 XYZ轴±0.1μm,重复精度±0.05μm
硬件配置 探测器 1024×1024像素CCD,-20℃半导体制冷
光源 卤钨灯(380-1700nm)+ LED辅助(可选)
显微物镜 标配4×/10×/20×/50×;可选100×油浸
软件功能 采集校正 自动暗场/平场/波长校准
数据分析 PCA、端元提取、光谱匹配、定量分析
数据导出 CSV、ENVI、TIFF、JPEG

三、典型行业应用场景

  • 材料科研:半导体晶圆微区杂质分布、薄膜厚度Mapping、复合材料界面光谱成像;
  • 生命科学:细胞色素(叶绿素、血红蛋白)分布、组织切片病理特征分析;
  • 工业检测:PCB焊点缺陷检测、涂层均匀性定量分析、宝石/玉石微区成分鉴定;
  • 环境监测:微塑料颗粒识别、土壤微区养分(N/P/K)分布可视化;
  • 法医物证:微量纤维、涂料、油墨的光谱指纹比对。

HY-5010-U通过显微尺度下空间与光谱信息同步获取的核心优势,解决了传统显微成像无法提供成分信息、光谱分析无法定位微区的痛点。其参数设计兼顾科研级精度与工业级效率,适配多领域实验室与检测场景的微区表征需求,是显微光谱分析的实用工具。

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杭州高谱成像技术有限公司成立于2019年7月。是一家专注于光谱成像技术,为用户提供光谱视觉综合解决方案的高科技创新型企业。 公司先后开发了可见光到近红外高光谱相机、无人机载高光谱成像系统、便携式、实验室和微观高光谱成像仪等一系列光学机电一体化精密仪器,形成了从高光谱核心部件设计与调整到成像仪开发、高光谱数据处理软件和算法应用的完整技术链, 解决客户在教育科研、智慧农业、生态环保、智能制造、工业检测等应用领域的深层次感知需求。

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