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【产品推荐】沈阳科晶高真空多靶磁控溅射仪系列

来源:沈阳科晶自动化设备有限公司 更新时间:2025-09-29 13:45:18 阅读量:247
导读:沈阳科晶自主研发和生产多款磁控溅射仪,全系列支持定制!
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
  • 配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
  • 可制备多种薄膜,应用广泛。
  • 桌面式,体积小,操作简便。
  • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

VTC-600GD高真空磁控溅射仪
  • 至多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
  • 可制备多种薄膜,应用广泛。
  • 桌面式,体积小,操作简便。
  • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

VTC-600G高真空磁控溅射仪
  • 可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
  • 可制备多种薄膜,应用广泛。
  • 台式机身,体积小,操作简便。
  • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

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