奥影 微焦点X射线源参数

奥影微焦点X射线源系列面向材料表征、薄膜与涂层分析、微区结构研究及粉末颗粒分布等场景，提供多档焦点尺寸与输出功率，兼顾分辨率与热负荷。以下信息聚焦产品知识与选型要点，便于实验室、科研与工业现场快速决策。

型号与核心参数

• AOX-MF5
• 焦点尺寸：5 μm
• 额定电压/电流：40 kV / 100 μA
• 最大输出功率：4 W
• 靶材与结构：钨靶，强制水冷
• 冷却与安装：紧凑机身，易于与显微系统对接
• 数据接口与软件：USB3.0、以太网，配套控制软件
• 典型应用：极薄样品的高对比度成像、晶粒微区分析
• AOX-MF10
• 焦点尺寸：10 μm
• 额定电压/电流：50 kV / 200 μA
• 最大输出功率：10 W
• 靶材与冷却：钨靶，水冷
• 尺寸与重量：较MF5略大，便于置入中型仪器台
• 接口与兼容性：USB3.0、以太网
• 典型应用：薄层材料、低对比区域的快速检测
• AOX-MF20
• 焦点尺寸：20 μm
• 额定电压/电流：60 kV / 400 μA
• 最大输出功率：24 W
• 靶材与冷却：钨靶，水冷
• 尺寸与重量：中等尺寸，便于集成在多功能平台
• 接口与控制：Ethernet、USB-C，软件集成友好
• 典型应用：粉末材料表征、微区成像与粒度分析
• AOX-MF50
• 焦点尺寸：50 μm
• 额定电压/电流：60 kV / 800 μA
• 最大输出功率：48 W
• 靶材与冷却：钨靶，水冷
• 尺寸与重量：更大功率单元，适合高产出场景
• 接口与控制：Ethernet、USB-C，支持远程诊断
• 典型应用：宏观快速成像、厚样件初筛与大面积分析

共性特征与选型要点

• 输出稳定性与热管理：在室温条件下8小时内波动通常控制在较小范围，确保长时间成像的一致性；水冷散热与热沉设计帮助维持焦点稳定。
• 控制与数据兼容性：统一的控制软件支持多型号协同工作，数据可导出为常用图像与数据格式，便于与XRD、SEM、显微成像等系统互操作。
• 安全与防护：全封闭罩体、互锁保护与局部屏蔽选项，符合实验室辐射防护要求；标准化接口便于与现有安全组件对接。
• 选型要点简析
• 焦点尺寸 vs 成像分辨率：5–10 μm适合高分辨率微区，20–50 μm适合快速宏观筛选与大面积成像。
• 功率需求与热负荷：小样品或低对比样品优选低功率型号；大面积或高透射材料可考虑高功率型号以提升探测效率。
• 空间与集成：机身尺寸、接口类型与样品台组合决定是否需要改造工作站或增加中间件。
• 软件与维护：关注远程诊断能力、固件升级频率及易更换的耗材周期，如靶材寿命和冷却部件维护。

场景化FAQ

• 问：哪些样品最适合使用奥影微焦点X射线源？ 答：薄膜与涂层的局部对比成像、晶粒边界的微区分析、粉末样品的颗粒分布 screening，以及需要在有限体积内获得高分辨率信息的场景都很合适。
• 问：如何在预算与性能之间取舍？ 答：若需要极小焦点与最高对比度，优先考虑5 μm或10 μm型号；若目标是快速成像与高产出，50 μm型号在单位时间内的覆盖面更大。结合待分析样品的厚度与热负荷来决策。
• 问：能否与现有显微系统和分析仪器直接集成？ 答：系列提供以太网和USB接口，常与XRD、显微镜、样品转台及分析软件对接，数据格式与接口均向主流平台兼容，便于一体化工作流程。
• 问：日常维护的重点是什么？ 答：定期检查冷却系统、确保靶材状态良好、校准焦点对中、检查互锁功能是否正常，以及关注软件版本与固件更新情况。
• 问：辐射防护与合规如何保障？ 答：在带屏蔽罩的工作站内操作，遵循实验室辐射防护规范，定期进行设备自检与外部检测；更换部件遵循厂商建议的维护周期。
• 问：售后服务和备件如何保障？ 答：提供标准保修与远程诊断服务，关键部件如靶材和电子部件按需更换，支持定期保养套餐与现场服务选项。
• 问：选型后如何评估投资回报？ 答：通过对比样品处理速率、分辨率需求和材料特性，结合检测产出与重复性来评估；高稳定性与软件集成度通常有助于缩短分析时间与提高数据一致性。
• 问：是否有升级路线？ 答：若未来探测需求提升，可在原有系统基础上扩展接口、增加样品台或升级控制软件，以实现更大范围的应用覆盖。

如需，我可以根据你们的实际样品类型、空间条件与预算，给出更具体的型号搭配与采购清单，甚至提供初步选型对比表和场景化应用案例。