微透镜阵列技术制作存在的缺点

       微透镜阵列在微光学系统中有着重要而广泛的应用，如可用于光信息处理、光计算、光互连、光数据传输、生成二维点光源，也可用于复印机、图像扫描仪、传真机、照相机，以及医疗卫生器械中。此外，微透镜阵列器件也实现了微型化和集成化，使得其具有很强的适应性，可广泛用于通信、显示和成像器件当中。用于半导体激光器的椭圆形折射微透镜阵列，能够实现激光器的聚焦与准直，激光二极管(LD)的光束整形，微透镜阵列还可用于光纤、光学集成回路之间，实现光器件的有效耦合。在光纤通信中，椭圆形微透镜将来自自由空间的光耦合进光纤，并校准从光纤出来的光。

       微透镜阵列己经在原子光学领域有所应用，利用微透镜阵列做成原子波导、分束器、马赫一曾德尔干涉仪或利用其捕获原子或者对中性原子进行量子信息处理。因此对于微透镜阵列使用材料，制作工艺和用途方面的研究十分必要。

       然而利用这种技术制作的微透镜阵列也存在诸多缺点：

       一、由于光刻胶对于基板材料存在浸润现象，当光刻胶在熔融状态时与基板的附着力是一定的，那么当熔融光刻胶Z 终成型以后微透镜球面轮廓与基板之间存在浸润角，使微透镜的边缘存在一定的曲率，而中间部分下陷；

       二、一般情况下微透镜阵列的填充因子不会超过80%，而且光刻胶在熔化后容易粘连，相邻的熔融光刻胶一旦接触后，不会形成透镜的面形。由于填充因子不高，使入射的光不能充分利用，并且会引起背景噪声；

       三、由于光刻胶本身的机械性能和化学性能比较差，光学性能也不高，不适于作为Z 终的微透镜或其他微结构的材料。