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赛默飞 1150 型 CO/HC 去除器特点

来源:赛默飞化学分析仪器 更新时间:2026-04-16 14:30:04 阅读量:8
导读:赛默飞1150型CO/HC去除器是针对气相色谱(GC)、质谱(MS)及联用系统中痕量一氧化碳(CO)、总烃(HC)污染物的专用净化装置,核心解决载气/辅助气残留污染物对高灵敏度分析的干扰问题,遵循USP/EP气体净化标准,参数适配主流分析仪器气路需求。

赛默飞1150型CO/HC去除器特点

赛默飞1150型CO/HC去除器是针对气相色谱(GC)、质谱(MS)及联用系统中痕量一氧化碳(CO)、总烃(HC)污染物的专用净化装置,核心解决载气/辅助气残留污染物对高灵敏度分析的干扰问题,遵循USP/EP气体净化标准,参数适配主流分析仪器气路需求。

核心性能特点与关键参数

  • 污染物去除效率:经NIST溯源标准气验证,CO去除率≥99.99%,可将载气中CO浓度从典型50ppb降至≤1ppb;总烃(HC)去除率≥99.95%,HC浓度从20ppb降至≤0.5ppb,满足痕量分析背景要求;
  • 温控精度:内置PID温控系统,控温精度±1℃,操作温度150-350℃,升温速率≤20℃/min,适配He、N₂、Ar等载气;
  • 流量兼容性:最大处理流量10L/min(He载气),压降≤0.5psi(@5L/min流量),兼容实验室常规GC/MS载气流量(1-5L/min);
  • 催化剂寿命:专利贵金属催化剂,正常操作下寿命≥2年(或累计处理10⁶L气体),无需频繁更换;
  • 结构设计:紧凑不锈钢腔体(φ100mm×200mm),耐压100psi,支持在线/离线安装,适配实验室布局。

典型应用场景

  • 高灵敏度GC/MS分析:环境痕量VOCs检测(HJ 644-2013)、食品农药残留分析(GB 23200.113-2018),去除载气CO/HC避免背景峰干扰,定量相对误差≤1%;
  • 半导体高纯气体制备:辅助制备9N级高纯He/N₂,满足芯片制造气相沉积、离子注入工艺纯度要求;
  • 石化在线分析:搭配在线GC系统,去除样品气残留HC,保障C1-C8烃类组分定量精度(RSD≤0.5%);
  • 同位素分析:碳同位素比值测定(IRMS),消除CO/HC对¹³C/¹²C比值的干扰,提升结果可靠性。

运维注意事项

  • 催化剂活化:新装置首次使用需300℃活化4h,长期停机(>72h)后需200℃活化2h;
  • 滤芯更换:前置0.2μm粉尘滤芯每6个月更换(流量1L/min),后置疏水滤芯每12个月更换;
  • 异常排查:温度偏离±5℃检查加热元件/PID控制器;污染物浓度超标需排查催化剂是否中毒(硫/氯污染);
  • 气体切换:更换载气类型时,需用新载气purge腔体5min,避免残留气体影响效果。

赛默飞1150型凭借高净化效率、宽兼容性与稳定性能,成为实验室高灵敏度分析与工业高纯气体制备的核心辅助设备,可有效提升分析准确性与重复性,降低运维成本。

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