在半导体芯片制造的精密蚀刻与清洗环节，磷酸、硫酸、硝酸、氢氟酸、乙酸等组成的混酸溶液是至关重要的工艺化学品，其浓度的微小偏差都可能导致晶圆刻蚀速率不均、线宽失控乃至产品报废。
传统方法的分析周期长达半小时以上，严重滞后于生产工艺，无法实现实时调控，已成为提升良率与效率的瓶颈。
近红外光谱技术则为这一核心质控环节带来了颠覆性的变革，助力半导体制造向智能化与精准化迈进。
近红外光谱可以检测含氢基团（如，C-H、N-H、O-H、S-H）的倍频吸收与合频吸收，而混酸溶液中的各组分在近红外区域具有独特的光谱特征。
通过建立光谱数据与参考方法（如，温度滴定）所测得各酸含量值之间的化学计量学模型，即可实现未知样品中各酸含量的快速预测。
? 将分析时间从 30+分钟 缩短至 10秒，消除了试剂消耗与废液处理问题，特别适用于高通量质检与生产线上实时监控。
硬件
OMNIS 奥秘一代近红外光谱仪（液体）
软件
◆ OMNIS 单机版软件
◆ 定量模型开发软件
附件
◆ 一次性样品瓶，8mm
◆ 样品瓶适配器，8mm
瑞士万通 OMNIS 奥秘一代近红外光谱仪凭借其更快速、更简单、更高效的技术亮点，在复杂混酸体系的定量分析中展现出强大实力。
它不仅是对传统分析方法的重要补充，更是工业4.0时代下，实现过程分析技术的理想工具，为提升生产工艺控制水平与产品质量提供了强有力的技术支撑。
更多详细信息，请点击下方“阅读原文”查阅。
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