在半导体芯片微缩化进程中，光刻胶是图形转移的核心媒介，直接决定电路精度与生产良率，是制造链不可替代的关键材料。阿拉丁围绕光刻胶构建覆盖核心环节的产品体系，精准匹配研发与生产需求。
为什么光刻胶试剂是半导体研发的核心选择？
? 唯一图形载体：仅光刻胶能通过光化学反应，将电路图形精准转移到晶圆表面，无替代材料
? 技术节点关键：分辨率直接制约芯片最小线宽，先进制程依赖高性能光刻胶
? 良率核心影响：纯度与稳定性决定曝光、蚀刻成功率，微量杂质可能导致晶圆报废
? 全流程纽带：贯穿晶圆制造各环节，串联底层电路到顶层布线
阿拉丁光刻胶试剂，如何匹配行业需求？
? 先进制程研发：提供高纯光刻胶试剂，适配先进制程对高纯材料的需求
? 中试及小规模生产：可定制大包装规格，平衡成本与批间稳定性，支撑小批量试产
? 光刻胶配方研发：覆盖感光树脂单体、光引发剂、湿电子化学品等全品类原料，助力光刻胶配方优化
? 多电子领域适配：同样适用于新型显示面板、印制电路板（PCB）等其他电子领域的光刻工艺需求
阿拉丁光刻胶试剂的产品优势
? 核心品类覆盖：涵盖ArF/KrF/UV单体、光引发剂、湿电子化学品、基底材料等核心分类，无需跨品牌采购，实现一站式配齐
? 高纯度子品牌保障：PrimorTrace?子品牌下产品纯度覆盖≥99.99%-≥99.99998%，专为适配先进制程对超高纯材料的需求设计
? 全批次溯源管控：每批次产品均提供CoA，清晰标注纯度、杂质含量等关键性能指标，通过数据追溯助力控制批间差异
? 技术支持配套：提供产品选型咨询与应用建议，协助解决光刻工艺中材料适配问题，降低研发试错成本
光刻胶：半导体精细制造的关键
随着半导体技术突破，光刻胶性能要求提升。阿拉丁将持续优化产品体系，为制造微缩化提供稳定方案。
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